[发明专利]一种晶圆表面清洁装置

权利要求书

1.一种晶圆表面清洁装置，其特征在于：包括清洁主体（1）和氮气输送管道（2），所述清洁主体（1）内部开设有氮气临时存储腔（105），清洁主体（1）外周面设置有与氮气临时存储腔（105）相连通的氮气接口（101）；所述氮气输送管道（2）密封套接在氮气接口（101）部位；所述清洁主体（1）包括有：限位凸起（104），限位凸起（104）一体式设置于清洁主体（1）外周面底部；往复滑动槽（106），往复滑动槽（106）开设于限位凸起（104）底端面并贯通清洁主体（1）外周面后侧方；所述往复滑动槽（106）内部滑动安装有阻隔件（3），阻隔件（3）后端面固定安装有展示件（302），展示件（302）顶端面呈间隔分布状设置有反光贴A（307）和反光贴B（308），反光贴A（307）和反光贴B（308）为不相同的色彩；所述往复滑动槽（106）呈矩形槽结构，每处往复滑动槽（106）内端顶面相对于氮气临时存储腔（105）部位均开设有一处与其相连通的氮气喷孔（107）；每处所述往复滑动槽（106）内端顶面相对于氮气喷孔（107）轴心部位均开设有一处嵌槽（108），嵌槽（108）呈圆形槽结构，嵌槽（108）直径大于氮气喷孔（107）直径；每处所述嵌槽（108）内均粘接有一张封闭件（4），封闭件（4）整体呈圆形片结构，封闭件（4）结构尺寸与嵌槽（108）结构尺寸相一致；所述封闭件（4）轴心部位开设有一处呈十字形结构的切断口（401），所述切断口（401）未被气流冲击状态下，切断口（401）处于密封贴合状态；

所述阻隔件（3）包括有：斜面（301），斜面（301）设置于阻隔件（3）后端面与顶端面之间，斜面（301）与阻隔件（3）顶端面呈四十五度夹角；所述阻隔件（3）还包括有：复位件（304），复位件（304）为弹簧，每块滑动块（303）前端面均固定安装有一根复位件（304），复位件（304）另一端与限位滑槽（109）内端前侧面固定相连接；复位件（304）未承受负荷状态下，斜面（301）位于氮气喷孔（107）正下方部位，保证氮气喷孔（107）部位高压氮气喷出时，可冲击推动阻隔件（3）沿往复滑动槽（106）向前滑动，以实现展示件（302）的展示；清洁主体（1）包括有：插接口（1010），插接口（1010）开设于限位凸起（104）前端面并与往复滑动槽（106）相连通；复位件（304）未承受负荷状态下，展示件（302）前端收纳于插接口（1010）内。

2.如权利要求1所述一种晶圆表面清洁装置，其特征在于：所述清洁主体（1）包括有：安装件（102），安装件（102）整体呈矩形块结构；安装孔位（103），安装孔位（103）两端为半圆形的矩形结构，安装孔位（103）开设于安装件（102）前端面。

3.如权利要求1所述一种晶圆表面清洁装置，其特征在于：所述限位凸起（104）整体呈矩形块结构，限位凸起（104）共设置有十块，十块限位凸起（104）呈均匀分布状设置于清洁主体（1）外周面底部。

4.如权利要求1所述一种晶圆表面清洁装置，其特征在于：所述封闭件（4）整体厚度为二毫米。

5.如权利要求1所述一种晶圆表面清洁装置，其特征在于：所述清洁主体（1）包括有：限位滑槽（109），限位滑槽（109）呈矩形槽结构，每处往复滑动槽（106）左右端面均开设有一处限位滑槽（109）；所述阻隔件（3）包括有：滑动块（303），滑动块（303）整体呈矩形块结构，阻隔件（3）左端面及右端面均固定连接有一块滑动块（303）；滑动辅助件（305），滑动辅助件（305）为滚珠，每块滑动块（303）顶端面、底端面及侧端面内均转动安装有两颗滑动辅助件（305）；滑动块（303）位于限位滑槽（109）内，但滑动块（303）不与限位滑槽（109）相接触，滑动辅助件（305）与限位滑槽（109）相接触。

6.如权利要求1所述一种晶圆表面清洁装置，其特征在于：所述阻隔件（3）整体呈矩形块结构，阻隔件（3）顶端面、左端面及右端面不与往复滑动槽（106）顶端面、左端面及右端面相接触；中空腔（306），中空腔（306）开设于阻隔件（3）内部。