[发明专利]紧缩场馈源偏焦量化值的确定方法及装置

权利要求书

1.一种紧缩场馈源偏焦量化值的确定方法，其特征在于，包括：

确定反射面的类型；

根据确定的该类型，确定馈源相位中心未偏焦时，该馈源发射的电磁波所对应未偏焦路径的第一绝对相位；

根据确定的该类型，确定馈源相位中心偏焦时，该馈源发射的电磁波所对应偏焦路径的第二绝对相位；

将所述第一绝对相位与所述第二绝对相位的差值，确定为紧缩场馈源偏焦量化值。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据确定的该类型，确定馈源相位中心偏焦时，该馈源发射的电磁波所对应偏焦路径的第二绝对相位，包括：

确定所述偏焦路径上该馈源偏焦时相位中心的位置信息、观察位置信息；

根据确定的该类型以及该馈源偏焦时相位中心的位置信息、观察位置信息，确定所述偏焦路径上至少一个反射点的位置信息；

根据确定的各位置信息，计算所述偏焦路径的长度；

根据所述偏焦路径的长度和该馈源发射的电磁波的波长，计算得到所述第二绝对相位。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，

所述确定反射面的类型，包括：确定反射面的类型为单反射面；所述偏焦路径上包括一个反射点；

确定所述偏焦路径上包括的该反射点的位置信息，包括：

将该馈源偏焦时相位中心关于经过该反射点的法线所对应的对称点作为中间参量，利用所述单反射面的理论公式、该馈源偏焦时相位中心的位置信息、观察位置信息以及该中间参量，得到计算该反射点的位置信息的计算公式，利用该计算公式计算该反射点的位置信息。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述单反射面为单旋转抛物面；

所述利用该计算公式计算该反射点的位置信息，包括：利用如下公式计算得到该反射点的位置信息：

其中，F为该反射面的焦距；(x₀，y₀，z₀)为该馈源偏焦时相位中心的位置信息；(x，y，z)为观察位置信息，(a，b，c)为该中间参量对应对称点的位置信息，(x₁，y₁，z₁)为该反射点的位置信息。

5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，

所述确定反射面的类型，包括：确定反射面的类型为双反射面；所述双反射面包括副反射面和主反射面；所述偏焦路径上包括所述副反射面上的初次反射点和所述主反射面上的二次反射点；

确定所述偏焦路径上包括的所述初次反射点和所述二次反射点的位置信息，包括：

将所述双反射面在设定方向上进行投影，得到所述双反射面的投影面；在所述投影面上所述主反射面为抛物线，所述副反射面为直线；

根据所述投影面，确定馈源偏转角和副反射面偏转角；并将该馈源偏焦时相位中心关于经过所述初次反射点的法线所对应的第一对称点、以及该初次反射点关于经过所述二次反射点的法线所对应的第二对称点作为中间参量；

利用所述双反射面的理论公式、该馈源偏焦时相位中心的位置信息、观察位置信息、馈源偏转角、副反射面偏转角以及各中间参量，得到计算所述初次反射点和所述二次反射点的位置信息的计算公式，利用该计算公式计算所述初次反射点和所述二次反射点的位置信息。