[发明专利]一种荧光与长余辉联合检测的免疫层析方法及系统在审

专利信息
申请号: 202111100925.X 申请日: 2021-09-18
公开(公告)号: CN113884672A 公开(公告)日: 2022-01-04
发明(设计)人: 李富友;刘苗;徐明;程一航;刘倩 申请(专利权)人: 复旦大学;上海泰辉生物科技有限公司
主分类号: G01N33/558 分类号: G01N33/558;G01N33/543;G01N21/64
代理公司: 北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11465 代理人: 崔自京
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 荧光 余辉 联合 检测 免疫 层析 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种荧光与长余辉联合检测的免疫层析方法,其特征在于,包括以下步骤:

S1、准备试纸条:

试纸条结合垫上标记有长余辉纳米微球偶联的生物标志物I,检测线上标记生物标志物Ⅱ,质控线上标记活性检测物;

所述生物标志物Ⅰ、生物标志物II分别用于与待测目标物特异性结合;

所述活性检测物用于指示结合垫上标记物的有效性;

S2、上样:

于步骤S1准备的试纸条上滴加含有待测目标物的待测样品,至反应完成;

S3、使用荧光免疫分析仪器进行检测:

光源照射经步骤S2上样后的试纸条,测定检测线与质控线处的荧光信号强度,分别获得检测线处最大峰值对应的最大荧光强度值HT,质控线处最大峰值对应的最大荧光强度值HC

S4、比较检测线处最大荧光强度值HT与荧光免疫分析仪器的阈值DT

当HT小于阈值DT时,将荧光发光强度与预存的待测目标物浓度-荧光发光强度标准曲线拟合,得到待测目标物浓度;

当HT大于或等于阈值DT时,关闭光源,测定检测线与质控线处的长余辉信号强度;将长余辉发光强度与预存的待测目标物浓度-长余辉发光强度标准曲线拟合,得到待测目标物浓度。

2.根据权利要求1所述的一种荧光与长余辉联合检测的免疫层析方法,其特征在于,

步骤S4中,比较HT大于或等于阈值DT后,关闭光源前还包括步骤:调低光源功率,重复步骤S3。

3.根据权利要求2所述的一种荧光与长余辉联合检测的免疫层析方法,其特征在于,

所述调低光源功率为将光源功率调低2倍至30倍。

4.根据权利要求1所述的一种荧光与长余辉联合检测的免疫层析方法,其特征在于,

所述待测目标物为核酸、抗原蛋白或抗体。

5.根据权利要求1-4任一项所述的一种荧光与长余辉联合检测的免疫层析方法,其特征在于,

所述长余辉纳米微球包括载体微球和包埋于载体微球内部的长余辉发光材料。

6.根据权利要求5所述的一种荧光与长余辉联合检测的免疫层析方法,其特征在于,

所述长余辉发光材料包括吸光剂、缓存剂与发光剂;

所述吸光剂吸收激发光的能量后产生单线态氧;

所述缓存剂被所述单线态氧氧化生成不稳定中间体,所述不稳定中间体断键释放能量;

所述发光剂吸收所述不稳定中间体断键释放的能量,并释放长余辉。

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