[发明专利]溅镀靶、积层膜的制造方法、积层膜及磁记录媒体

权利要求书

1.一种溅镀靶，其含有Co与包含Cr及Ru中的至少Ru的金属作为金属成分，该包含Cr及Ru中的至少Ru的金属的含量相对于Co的含量的摩尔比为1/2以上，且含有Nb₂O₅作为金属氧化物成分，Nb₂O₅的含量为2mol％～5mol％，进一步含有Nb₂O₅以外的金属氧化物，包含Nb₂O₅的金属氧化物的合计含量为30vol％以上。

2.根据权利要求1所述的溅镀靶，其中，该Nb₂O₅以外的金属氧化物是选自由TiO₂、SiO₂、B₂O₃、CoO、Co₃O₄、Cr₂O₃、Ta₂O₅、ZnO及MnO组成的群中的至少一种金属氧化物。

3.根据权利要求1或2所述的溅镀靶，其以15mol％～60mol％含有Co。

4.根据权利要求1或2所述的溅镀靶，其含有Cr及Ru中的至少Ru，且将Cr及Ru的合计含量设为30mol％～60mol％。

5.根据权利要求1或2所述的溅镀靶，其进一步以5mol％～30mol％含有Pt作为金属成分。

6.一种积层膜的制造方法，其包括：通过使用根据权利要求1至5中任一项所述的溅镀靶的溅镀，在含有Ru的基底层上形成中间层。

7.根据权利要求6所述的积层膜的制造方法，其进一步包括：通过使用含有Co及Pt作为金属成分的溅镀靶的溅镀，在该中间层上形成磁性层。

8.一种积层膜，其包含：

基底层：含有Ru；

中间层：形成于该基底层上，含有Co与选自由Cr及Ru组成的群中之一种以上的金属作为金属成分，该选自由Cr及Ru组成的群中之一种以上的金属的含量相对于Co的含量的摩尔比为1/2以上；以及

磁性层：形成于该中间层上，含有Co及Pt作为金属成分；

该中间层含有Nb₂O₅作为金属氧化物成分，Nb₂O₅的含量为2mol％～5mol％，进一步含有Nb₂O₅以外的金属氧化物，包含Nb₂O₅的金属氧化物的合计含量为30vol％以上。

9.一种磁记录媒体，其具备根据权利要求8所述的积层膜。