[发明专利]一种高能粒子表面处理系统

说明书

本发明公开了一种高能粒子表面处理系统，包括底座，所述底座的上端左部固定连接有电气控制箱，所述底座的上端右部固定连接有排气装置，所述排气装置的左端上部穿插固定连接有工作腔室，所述工作腔室的上端中部穿插固定连接有调节装置，所述调节装置的下端中部设置有产品台架，所述工作腔室的左端通过合页活动连接有密封门，所述工作腔室的下端中部固定连接有导入器，所述导入器的上端贯穿工作腔室的下腔壁并固定连接有离子赋能器。本发明的一种高能粒子表面处理系统，提供一种低应力、高精度的加工方式，通过高能离子对产品表面的轰击可以促使金属、非金属产品的表面的分子、原子的迁移，从而达到产品表面处理的目的，适合广泛运用。

技术领域

本发明涉及离子束加工技术领域，特别涉及一种高能粒子表面处理系统。

背景技术

高能粒子是现代粒子散射实验中的炮弹，是研究物质基元结构的最有用的工具，而且可以说，到目前为止，几乎是粒子物理学家们唯一的工具，没有高能粒子的散射实验，近代物理几乎不会发展起来，早期的高能粒子来源于天然放射性元素如铀、镭等放出的高能射线，粒子加速器和对撞机等现代大型实验装置应运而生，大批粒子不断被发现，为了满足用于工具的各种组件、用于传输设备、化学和发电设备等的组件所需的机械和电化学特性，所以需要用到高能粒子进行表面处理；

发现现有技术中至少存在如下问题没有得到解决：1、处理系统不能根据产品不同，来调节产品与离子赋能器之间的距离，也不能对产品进行不同方向的旋转，不能满足使用者的使用需求，降低了装置的实用性；2、处理系统以较大固体颗粒的赋能撞击为主，由于固体颗粒的物理尺寸大撞击力大，处理过程中造成薄片产品表面产生变形；3、气体离子表面处理装置由于能量较小，只能作为产品表面杂质的清洗工具，无法对表面的微观缺陷进行加工处理；4、处理系统原理上只能工作于一种较差的真空环境中，只能形成低能粒子流，影响了产品的加工质量，降低了加工效率；故此，我们提出一种工作于较高真空系统中的高能粒子表面处理系统。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种高能粒子表面处理系统，可以有效解决背景技术中的问题。

为实现上述目的，本发明采取的技术方案为：

一种高能粒子表面处理系统，包括底座，所述底座的上端左部固定连接有电气控制箱，所述底座的上端右部固定连接有排气装置，所述排气装置的左端上部穿插固定连接有工作腔室，所述工作腔室的上端中部穿插固定连接有调节装置，所述调节装置的下端中部设置有产品台架，所述工作腔室的左端通过合页活动连接有密封门，所述工作腔室的下端中部固定连接有导入器，所述导入器的上端贯穿工作腔室的下腔壁并固定连接有离子赋能器，且离子赋能器的下端与工作腔室的下腔壁固定连接，所述工作腔室的前腔壁中部和后腔壁中部均穿插固定连接有观察窗口，所述工作腔室的下端四角均固定连接有支撑脚，所述排气装置的左端下部固定连接有水气供应箱，且水气供应箱的下端和四个支撑脚的下端均与底座的上端固定连接，所述水气供应箱的上端左部穿插固定连接有供气管，所述水气供应箱的左端下部穿插固定连接有供水管，且供水管和供气管远离水气供应箱的一端均与导入器穿插固定连接。

作为上述方案的进一步改进，所述调节装置包括调节气缸，所述调节气缸的输出端贯穿工作腔室的上腔壁并固定连接有固定架，所述固定架的下端固定连接有调节板，所述调节板的上端四角均固定连接有限位装置，所述调节板的下端周边之间共同开有限位槽。

作为上述方案的进一步改进，所述限位装置包括限位筒，所述限位筒的下筒壁中部开有通孔，所述通孔内穿插活动连接有限位杆，所述限位杆的外表面下部套接有弹簧，所述限位杆的上端固定连接有限位板，所述限位筒的下端与工作腔室的上端穿插固定连接。

作为上述方案的进一步改进，所述产品台架包括驱动器，所述驱动器，所述驱动器的输出端贯穿调节板的上端并固定连接有旋转台，所述旋转台的下端中部固定连接有固定装置，所述旋转台的上端周边固定连接有若干个限位块，若干个所述限位块的外表面上部均与限位槽滑动连接，所述旋转台的上端通过轴承与调节板的下端活动连接。