[发明专利]一种高能粒子表面处理系统

权利要求书

1.一种高能粒子表面处理系统，包括底座（1），其特征在于：所述底座（1）的上端左部固定连接有电气控制箱（2），所述底座（1）的上端右部固定连接有排气装置（6），所述排气装置（6）的左端上部穿插固定连接有工作腔室（3），所述工作腔室（3）的上端中部穿插固定连接有调节装置（4），所述调节装置（4）的下端中部设置有产品台架（5），所述工作腔室（3）的左端通过合页活动连接有密封门（12），所述工作腔室（3）的下端中部固定连接有导入器（10），所述导入器（10）的上端贯穿工作腔室（3）的下腔壁并固定连接有离子赋能器（11），且离子赋能器（11）的下端与工作腔室（3）的下腔壁固定连接，所述工作腔室（3）的前腔壁中部和后腔壁中部均穿插固定连接有观察窗口（13），所述工作腔室（3）的下端四角均固定连接有支撑脚（14），所述排气装置（6）的左端下部固定连接有水气供应箱（7），且水气供应箱（7）的下端和四个支撑脚（14）的下端均与底座（1）的上端固定连接，所述水气供应箱（7）的上端左部穿插固定连接有供气管（8），所述水气供应箱（7）的左端下部穿插固定连接有供水管（9），且供水管（9）和供气管（8）远离水气供应箱（7）的一端均与导入器（10）穿插固定连接。

2.根据权利要求1所述的一种高能粒子表面处理系统，其特征在于：所述调节装置（4）包括调节气缸（41），所述调节气缸（41）的输出端贯穿工作腔室（3）的上腔壁并固定连接有固定架（42），所述固定架（42）的下端固定连接有调节板（43），所述调节板（43）的上端四角均固定连接有限位装置（44），所述调节板（43）的下端周边之间共同开有限位槽（45）。

3.根据权利要求2所述的一种高能粒子表面处理系统，其特征在于：所述限位装置（44）包括限位筒（441），所述限位筒（441）的下筒壁中部开有通孔（443），所述通孔（443）内穿插活动连接有限位杆（442），所述限位杆（442）的外表面下部套接有弹簧（444），所述限位杆（442）的上端固定连接有限位板（445），所述限位筒（441）的下端与工作腔室（3）的上端穿插固定连接。

4.根据权利要求1所述的一种高能粒子表面处理系统，其特征在于：所述产品台架（5）包括驱动器（51），所述驱动器（51），所述驱动器（51）的输出端贯穿调节板（43）的上端并固定连接有旋转台（52），所述旋转台（52）的下端中部固定连接有固定装置（53），所述旋转台（52）的上端周边固定连接有若干个限位块（54），若干个所述限位块（54）的外表面上部均与限位槽（45）滑动连接，所述旋转台（52）的上端通过轴承与调节板（43）的下端活动连接。

5.根据权利要求4所述的一种高能粒子表面处理系统，其特征在于：所述固定装置（53）包括固定座（531），所述固定座（531）的下端前部、下端后部、下端左部和下端右部均开有移动槽（532），左右两侧所述移动槽（532）的左槽壁中部与右槽壁中部之间和前后两侧的移动槽（532）的前槽壁中部与后槽壁中部之间均通过轴承共同活动连接有丝杆（533），四个所述丝杆（533）的外表面中部均穿插活动连接有移动块（534），四个所述移动块（534）的下端均固定连接有固定板（535），四个所述固定板（535）相对面的一端均固定连接有夹板（536），四个所述丝杆（533）的外侧一端均穿插固定连接有调节把手（537），所述固定座（531）的上端与旋转台（52）的下端固定连接。

6.根据权利要求1所述的一种高能粒子表面处理系统，其特征在于：所述排气装置（6）包括低真空泵（61），所述低真空泵（61）的上端左部穿插固定连接有第一管道（62），所述第一管道（62）远离低真空泵（61）的一端穿插固定连接有高真空泵（63），且高真空泵（63）的左端与工作腔室（3）的右端穿插固定连接，所述第一管道（62）的外表面下部穿插固定连接有第二管道（64），且第二管道（64）的左端与工作腔室（3）的右端穿插固定连接，所述第二管道（64）的下端中部和第一管道（62）的上端中部均设置电磁阀（65），所述低真空泵（61）的下端与底座（1）的上端固定连接。