[发明专利]一种原位削减雨天溢流污染的缓释净化装置及其方法在审
| 申请号: | 202111080215.5 | 申请日: | 2021-09-15 | 
| 公开(公告)号: | CN113697932A | 公开(公告)日: | 2021-11-26 | 
| 发明(设计)人: | 徐祖信;张云惠;楚文海;李怀正 | 申请(专利权)人: | 同济大学 | 
| 主分类号: | C02F1/72 | 分类号: | C02F1/72 | 
| 代理公司: | 北京汇捷知识产权代理事务所(普通合伙) 11531 | 代理人: | 林杨 | 
| 地址: | 200092 *** | 国省代码: | 上海;31 | 
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 | 
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 原位 削减 雨天 溢流 污染 净化 装置 及其 方法 | ||
本发明提供了一种原位削减雨天溢流污染的缓释净化装置及其方法,其中原位削减雨天溢流污染的缓释净化装置包括可渗透水质修复反应墙,所述可渗透水质修复反应墙设置在排水管末端的排污口下方河水中,所述可渗透水质修复反应墙内设有缓释材料。本发明的可渗透水质修复反应墙,能显著降低排污口附近水体中污染物浓度,大大降低雨天溢流污染,而且成本低廉,安装方便,便于推广,是一种简单、有效、经济的雨天溢流污染原位削减方法。
技术领域
本发明涉及河湖水体修复领域,尤其涉及一种原位削减雨天溢流污染的缓释净化方法。
背景技术
随着我国城市化进程的加快,雨天河道黑臭现象日益凸显,在我国绝大多数城市较为常见,尤其是南方地区。研究表明,我国城市水体雨天黑臭的主要原因是分流制系统和合流制系统雨天溢流污染。雨天溢流污水中含有来自不同污染源的大量污染物,未经充分处理直排入河,严重破坏河湖水环境和水生态系统。比如,在我国南方地区,合流制系统雨天排水时,COD可高达1200mg/L,均值高达540mg/L;分流制系统雨污混接时,排入雨水管网的污水下雨时发生溢流污染,排放COD高达800~1100mg/L,导致河道雨天黑臭。
目前,国内外针对雨天溢流污染问题一般从源头削减、过程控制和末端处理三个方面入手。末端控制是其中一种较为直接、有效的净化方式,比如在溢流污水排放到河道之前设置旋流分离器或快速过滤池进行预处理,实现对致黑致臭物质的源头削减。然而使用旋流分离器需定期清理装置中的沉积物,而且对溶解性污染物去除效果不佳;快速过滤池通常占地面积较大,且需配套安装相关装置,成本较高。最为重要的是,采用的功能材料多为混凝剂、絮凝剂、氧化剂等消耗速度较快的药剂,与水接触后立即溶解,一方面,一部分没消耗掉的药剂被水流冲走,造成浪费,另一方面,无法针对污水排放量定量添加或更换药剂,造成不便。
发明内容
本发明的目的是提供一种便于添加或更换药剂,且成本低,环保不浪费的原位削减雨天溢流污染的缓释净化装置及其方法。
为了达到上述技术目的,本发明提供了:
一种原位削减雨天溢流污染的缓释净化装置,包括可渗透水质修复反应墙,所述可渗透水质修复反应墙设置在排水管末端的排污口下方河水中,所述可渗透水质修复反应墙内设有缓释材料。
优选地,所述排污口上设有导流管,所述导流管的出口位于可渗透水质修复反应墙的上方,用于将溢流污水引流至可渗透水质修复反应墙内。
优选地,所述可渗透水质修复反应墙包括多孔支架,所述多孔支架垂直设置在污水池底部的底泥中,所述多孔支架的上下分别设有上隔网和下隔网,所述上隔网和下隔网之间填充有缓释材料。
优选地,所述多孔支架采用中空的长方体或正方体或圆柱体的结构垂直设置在污水池底部的底泥上。
优选地,所述上隔网和下隔网与多孔支架的孔径相同,采用3mm-6mm。
优选地,所述缓释材料的粒径采用4mm-8mm。
优选地,所述多孔支架的孔径与缓释材料粒径均匀,使可渗透反应墙墙体渗透性一致,水体均匀流过可渗透水质修复反应墙。
优选地,所述可渗透水质修复反应墙的底部设有彩带,当缓释材料充足时,彩带被压在可渗透水质修复反应墙的底部,当缓释材料用尽时,彩带漂浮到水面,提醒投加材料。
优选地,所述可渗透水质修复反应墙包括圆柱体结构的箱体,所述箱体的底部设有配重,所述箱体通过配重垂直设置在污水池底部的底泥上,所述箱体的顶部设有内开的箱门,所述箱体内设有上隔网,所述上隔网与箱门之间留有50cm的间隙,所述上隔网与箱体底部之间填充有缓释材料。
本发明还提供了一种原位削减雨天溢流污染的缓释净化装置,步骤如下:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于同济大学,未经同济大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111080215.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





