[发明专利]镀膜机中基片位置的监测方法、装置、系统及镀膜机

权利要求书

1.一种镀膜机中基片位置的监测方法，其特征在于，包括：

获取摄像装置采集到的场景图像；

基于所述场景图像确定目标基片及所述目标基片的三维位置信息；

在基于所述三维位置信息确定所述目标基片处于预设的目标区域内时，发出告警信息。

2.根据权利要求1所述的镀膜机中基片位置的监测方法，其特征在于，所述方法还包括：

将所述目标基片的三维位置信息与基于预构建的运动模型所预测的基片三维坐标进行匹配；

若不匹配，则触发检测所述目标基片是否处于所述目标区域内；否则，结束当前操作。

3.根据权利要求2所述的镀膜机中基片位置的监测方法，其特征在于，所述运动模型的构建，包括：

在所述镀膜机的伞架转动前，获取基片置于伞架上的初始位置信息；

确定所述伞架的转动信息，所述转动信息包括转动类型及转动类型对应的转速；

根据所述伞架的转动信息及所述基片的初始位置信息，构建所述基片的运动模型。

4.根据权利要求2所述的镀膜机中基片位置的监测方法，其特征在于，所述触发检测所述目标基片是否处于所述目标区域内，包括：

当检测到所述目标基片不处于所述目标区域内时，则以当前所述目标基片的三维位置信息更新所述运动模型的模型参数。

5.根据权利要求1所述的镀膜机中基片位置的监测方法，其特征在于，所述目标区域为位于所述镀膜机的伞架下方的空间区域。

6.根据权利要求1所述的镀膜机中基片位置的监测方法，其特征在于，所述基于所述场景图像确定目标基片，包括：

将当前场景图像帧与前一帧场景图像帧以及前两帧场景图像帧分别做差分运算，以提取动态目标；

根据预先获取到的基片在所述镀膜机的伞架上的相对位置，从所述动态目标中确定目标基片。

7.根据权利要求2所述的镀膜机中基片位置的监测方法，其特征在于，所述在基于所述三维位置信息确定所述目标基片处于预设的目标区域内时，发出告警信息，包括：

获取落入所述目标区域的目标基片基于所述运动模型所预测的基片三维坐标；

筛选出基片三维坐标在所述目标区域内分布最多的区域，并将其作为观察区域；

若连续的至少两帧的场景图像帧中所述观察区域内存有异物对象，则发出告警信息。

8.一种镀膜机中基片位置的监测装置，其特征在于，所述装置包括：

场景图像获取模块，用于获取摄像装置采集到的场景图像；

基片信息处理模块，用于基于所述场景图像确定目标基片及所述目标基片的三维位置信息；

基片掉落检测模块，用于在基于所述三维位置信息确定所述目标基片处于预设的目标区域内时，发出告警信息。

9.一种镀膜机中基片位置的监测系统，其特征在于，包括：摄像装置以及如权利要求8所述的镀膜机中基片位置的监测装置；

所述摄像装置，用于采集场景图像；

所述镀膜机中基片位置的监测装置，与所述摄像装置通讯连接，用于执行如权利要求1-7中任一项所述的镀膜机中基片位置的监测方法。

10.一种镀膜机，其特征在于，包括：如权利要求9所述的镀膜机中基片位置的监测系统。