[发明专利]气体供给装置、光刻装置以及物品制造方法在审
申请号: | 202111071545.8 | 申请日: | 2021-09-14 |
公开(公告)号: | CN114200779A | 公开(公告)日: | 2022-03-18 |
发明(设计)人: | 本间将人 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 李鹏宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 气体 供给 装置 光刻 以及 物品 制造 方法 | ||
本发明提供气体供给装置、光刻装置以及物品制造方法。提供有利于以简易构成来降低空间的温度分布的技术。气体供给装置具备构成气体的吹出口的框体和在与框体之间设有间隙并覆盖框体的罩,罩具有使从吹出口吹出的气体经过的开口部,在从正面观看吹出口时的平面观看时,开口部比吹出口小且位于收敛在吹出口的区域内的位置,罩具有在平面观看时与吹出口的一部分以及框体的第1面相向并形成开口部的第1部分和从第1部分延伸并与框体的不同于第1面的第2面相向的第2部分,第1部分将从吹出口吹出的气体的一部分向间隙引导,间隙构成由第1部分引导的气体的流路。
技术领域
本发明涉及气体供给装置、光刻装置以及物品制造方法。
背景技术
在液晶面板或半导体器件的制造工序(光刻工序)所使用的曝光装置中,原版和基板分别被保持于原版工作台和基板工作台,反复进行扫描移动。为了提高伴随扫描移动的曝光的精度,需要精确地控制原版工作台和基板工作台的位置。为此,由高精度的测量器测量原版工作台和基板工作台的位置。作为高精度的测量器,有编码器或干涉计。对于这些测量器,若该光路中的空气的折射率变化,则光路长度会变化。因而,在要求高精度的位置测量的场合,需要不使光路中的空气的折射率变化(不使空气晃动)。折射率由于根据温度、湿度、压力而变化,所以,重要的是将这些物性值保持为恒定。因而,在曝光装置中,已知有以下结构:将基板工作台和其测量器封入在1个空间(基板工作台空间)内,对该基板工作台空间进行空气调节,由此将测量器的光路的温度、湿度、压力保持为恒定。进而,作为其结构,已知有朝一个方向对基板工作台空间整体进行整流的方法以及在测量器的光路中在局部集中地进行空气调节的方法。以上的构成对于包含原版工作台和其测量器的空间(原版工作台空间)的空气调节也同样。
但是,在对基板工作台空间或者原版工作台空间进行空气调节的场合,仅单纯地使气体流动无法将测量器的光路的折射率保持为恒定。其理由在于,在基板工作台空间中有大量的热源,其热量可到达测量器的光路。例如,用于驱动基板工作台的促动器或其基板、各种测量系统所具备的电气部件会成为热源。另外,热量有时也从与基板工作台空间外的空间连接的部件向基板工作台内的部件传递,热量自此向测量器的光路扩散传递。进而,通过基板工作台进行扫描移动,即便在空调气流的上游存在测量器的光路,有时处于空调气流的下游的热量也扩散,会到达测量器的光路。此外,也有时供给气体的空调机的框体因热量而具有温度分布,框体内的空调气体自身具有温度分布。由于以上那样的热量的影响,在测量器的光路中产生温度波动,测量精度会降低。由于测量精度降低,也导致曝光精度的降低。
在专利文献1中公开了以下构成:测量基板工作台空间的壁面的温度,将被控制成与该温度大致相等的温度的气体向基板工作台空间整体供给。根据该构成,由于跟基板工作台空间外的空间连接的壁面与空调气体的温度大致相等,所以,基板工作台空间内的温度梯度有所降低,其结果,可降低测量器的光路中的温度波动。
在专利文献2中公开了以下构成:利用伯努利效应将空调气体向管道内吸引,从管道朝测量器的光路吹出气体。根据该构成,由于向测量器的光路吹出气体,所以,基板工作台移动的空间的热量、例如促动器或驱动促动器的电路部件等所产生的热量到达测量器的光路,能降低形成温度波动的情形。
另外,因基板工作台空间的热量而使得空调机的框体自身具有温度分布,为了不使框体内的空调气体产生温度分布,也有时将绝热材料贴装于框体的壁面。
另外,在专利文献3中公开了以下构成:在框体的壁面形成封闭空间并向该封闭空间单独地供给气体。根据该构成,通过向封闭空间充填气体,形成传热降低部,能降低热量从框体外向框体内传递的情形。
在先技术文献
专利文献1:日本特开平9-82626号公报
专利文献2:日本特开2015-95503号公报
专利文献3:日本特开2013-161991号公报
发明内容
发明所要解决的课题
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