[发明专利]气体供给装置、光刻装置以及物品制造方法

权利要求书

1.一种气体供给装置，其特征在于，

上述气体供给装置具备：

框体，该框体构成气体的吹出口；以及

罩，该罩在与上述框体之间设有间隙并覆盖上述框体，

上述罩具有开口部，该开口部使从上述吹出口吹出的气体经过，

在从正面观看上述吹出口时的平面观看时，上述开口部比上述吹出口小且位于收敛在上述吹出口的区域内的位置，

上述罩具有：第1部分，该第1部分在上述平面观看时与上述吹出口的一部分以及上述框体的第1面相向，并形成上述开口部；以及第2部分，该第2部分从上述第1部分延伸，并与上述框体的不同于上述第1面的第2面相向，

上述第1部分将从上述吹出口吹出的气体的一部分向上述间隙引导，上述间隙构成由上述第1部分引导的气体的流路。

2.如权利要求1所述的气体供给装置，其特征在于，

上述间隙设在上述第1面与上述第1部分之间以及上述框体的上述第2面与上述第2部分之间。

3.如权利要求1所述的气体供给装置，其特征在于，

上述间隙设在上述第1面与上述第1部分之间，而不设在上述框体的上述第2面与上述第2部分之间。

4.如权利要求1所述的气体供给装置，其特征在于，

上述罩还具有第3部分，该第3部分从上述第1部分向上述吹出口的内部延伸，并与不同于上述第1面以及上述第2面的上述框体的第3面相向。

5.如权利要求1所述的气体供给装置，其特征在于，

上述气体供给装置还具有调整部，该调整部对在上述间隙流动的气体的流量进行调整。

6.一种光刻装置，该光刻装置在基板上形成图形，其特征在于，

上述光刻装置具有：

基板工作台，该基板工作台保持上述基板并移动；

测量器，该测量器射出测量光，利用由上述基板工作台反射的测量光来测量上述基板工作台的位置；以及

权利要求1至5中任一项所述的气体供给装置，

上述气体供给装置配置成将从上述吹出口经由上述开口部吹出的气体向包含上述基板工作台以及上述测量器的第1空间供给。

7.如权利要求6所述的光刻装置，其特征在于，

上述光刻装置还具有排气机构，该排气机构将上述第1空间内的气体的至少一部分向跟上述第1空间隔开的第2空间排出。

8.如权利要求7所述的光刻装置，其特征在于，

上述气体供给装置配置于上述第1空间，上述排气机构将经过上述流路的气体向上述第2空间排出。

9.如权利要求8所述的光刻装置，其特征在于，

上述流路的出口与上述排气机构连接。

10.如权利要求6所述的光刻装置，其特征在于，

上述流路的入口与上述第1空间连通，上述流路的出口与跟上述第1空间隔开的第2空间连通。

11.如权利要求6所述的光刻装置，其特征在于，

上述光刻装置具有将上述第1空间与第2空间隔开的壁，

上述气体供给装置配置于上述第2空间，经由形成于上述壁的开口向上述第1空间供给气体。

12.如权利要求6所述的光刻装置，其特征在于，

上述框体包括第2框体，该第2框体从上述吹出口在上述测量光的光路的上方延伸，并形成为将从上述吹出口吹出的气体向上述光路引导，

上述罩进而配置在上述光路与上述第2框体之间的高度位置。

13.如权利要求6所述的光刻装置，其特征在于，

上述气体供给装置将由空调机进行了温度调节的气体向上述第1空间供给。