[发明专利]防污膜及其用途

权利要求书

1.一种防污膜，其特征在于，包含：一软片材，其中，所述软片材包含一金属材料；所述软片材的中心线算术平均粗糙度Ra为0.1微米至6微米、所述软片材的面的算术平均高度Sa为0.1微米至6微米、所述软片材的界面展开面积比Sdr为0.1至6、所述软片材的相对于光滑面的比例Surf(％)为160％至700％。

2.如权利要求1所述的防污膜，其特征在于，所述软片材的中心线算术平均粗糙度Ra为0.9微米至5.3微米。

3.如权利要求1所述的防污膜，其特征在于，所述软片材的面的算术平均高度Sa为0.3微米至5.3微米。

4.如权利要求1所述的防污膜，其特征在于，所述软片材的界面展开面积比Sdr为0.6至5.7。

5.如权利要求1所述的防污膜，其特征在于，所述软片材的相对于光滑面的比例Surf(％)为167％至668％。

6.如权利要求1所述的防污膜，其特征在于，所述软片材的表面形成有多个微结构颗粒，且所述微结构颗粒的平均粒径为5微米至100微米。

7.一种防污膜的用途，其特征在于，其用于增长一薄膜沉积设备进行一薄膜沉积制程的上机时间，其中，所述防污膜为权利要求1至6中任一项所述的防污膜。

8.如权利要求7所述的用途，其特征在于，所述薄膜沉积制程为制备有机发光二极体的电洞注入层的制程。

9.如权利要求7所述的用途，其特征在于，所述防污膜附着于所述薄膜沉积设备的内壁表面上。

10.如权利要求9所述的用途，其特征在于，所述防污膜以点焊的方式附着于所述薄膜沉积设备的内壁表面上。