[发明专利]掩膜版组件及其制造方法、显示基板、显示装置在审

专利信息
申请号: 202111065630.3 申请日: 2021-09-10
公开(公告)号: CN113789497A 公开(公告)日: 2021-12-14
发明(设计)人: 白珊珊;李彦松 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 代理人: 李莎
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 掩膜版 组件 及其 制造 方法 显示 显示装置
【说明书】:

本公开提供一种掩膜版组件及其制造方法、显示基板、显示装置,掩膜版组件包括:掩膜框架,包括内侧凹槽区域和外侧区域,所述外侧区域具有第一厚度,所述内侧凹槽区域具有第二厚度;掩膜版,固定于所述掩膜框架的所述内侧凹槽区域,具有第三厚度,所述掩膜版在所述掩膜框架上的正投影覆盖所述内侧凹槽区域;其中,所述第一厚度大于或等于所述第二厚度与所述第三厚度之和;定位掩膜版,固定于所述掩膜框架的所述外侧区域,并设置有定位孔,所述定位孔用于将所述掩膜版与所述显示基板进行对准。根据本公开,能够减小掩膜版拉伸的位置偏移和提高定位孔的对准精度,减小掩膜版的开口设计容差,有利于实现显示装置的窄边设计。

技术领域

本公开涉及显示技术领域,尤其涉及一种掩膜版组件及其制造方法、显示基板、显示装置。

背景技术

AMOLED(Active Matrix Organic Light Emitting Diode,有源矩阵有机发光二极体)显示器件是基于有机材料的一种电流型半导体发光器件。在AMOLED的器件结构中,功能层采用大开口的开放式掩膜版(open mask)进行蒸镀,由于这类开放式掩膜版为一整片,整版掩膜的面积较大,刻蚀和张网工艺的精度较低,使得张网后掩膜版的下垂量大,开口尺寸精度低,而开口位置精度低和下垂量大会导致开放式掩膜版蒸镀功能层材料的图形准确度降低,且容易产生阴影(shadow)不良的现象。这样,显示屏边框设计部分需要预留出足够的空间,以应对开放式掩膜版制作及蒸镀工艺产生的误差,不利于显示屏边框的窄边设计甚至是无边设计。

发明内容

有鉴于此,本公开的目的在于提出一种掩膜版组件及其制造方法、显示基板、显示装置。

第一方面,本公开提供了一种掩膜版组件,用于制作显示基板,包括:

掩膜框架,包括内侧凹槽区域和外侧区域,所述外侧区域具有第一厚度,所述内侧凹槽区域具有第二厚度;

掩膜版,固定于所述掩膜框架的所述内侧凹槽区域,包括开口区和遮挡区且具有第三厚度,所述开口区对应于所述显示基板的显示区域,所述掩膜版在所述掩膜框架上的正投影覆盖所述内侧凹槽区域;其中,所述第一厚度大于或等于所述第二厚度与所述第三厚度之和;

定位掩膜版,固定于所述掩膜框架的所述外侧区域,并设置有定位孔,所述定位孔用于将所述掩膜版与所述显示基板进行对准。

可选地,所述掩膜版组件还包括:

辅助掩膜版,固定在所述掩膜框架的所述外侧区域,且其在所述掩膜版上的正投影遮盖所述掩膜版上的所述开口区的至少一条边缘。

可选地,所述辅助掩膜版包括:具有第四厚度的凸起区域和具有第五厚度的中间区域,所述凸起区域固定于所述外侧区域,所述中间区域在所述掩膜版上的正投影覆盖所述开口区的至少一条边缘,所述第四厚度大于所述第五厚度。

可选地,所述开口区数量为多个且多个所述开口区形成阵列排布,所述辅助掩膜版在所述掩膜版上的正投影覆盖横向排列或纵向排列的多个所述开口区的同侧边缘。

可选地,所述开口区数量为多个且多个所述开口区形成阵列排布,所述辅助掩膜版在所述掩膜版上的正投影覆盖横向排列或纵向排列的多个所述开口区的相对侧的边缘和所述相对侧的边缘之间的遮挡区。

可选地,横向设置的所述辅助掩膜版的凸起区域的朝向与纵向设置的所述辅助掩膜版的凸起区域的朝向相对。

可选地,所述第四厚度为所述第五厚度的2倍。

第二方面,本公开提供了一种掩膜版组件的制作方法,包括:

提供具有第一厚度的掩膜框架;

蚀刻所述掩膜框架内侧的边缘区域,形成具有第二厚度的内侧凹槽区域;

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