[发明专利]通过旋转或振动光源来改善用于微纳成型的光照均匀度的方法在审

申请号：	202111065001.0	申请日：	2021-09-11
公开（公告）号：	CN113835304A	公开（公告）日：	2021-12-24
发明（设计）人：	卫荣汉;许雁雅	申请（专利权）人：	中工（湖州）科技有限公司
主分类号：	G03F7/20	分类号：	G03F7/20
代理公司：	郑州亦鼎知识产权代理事务所(普通合伙) 41188	代理人：	张夏谦
地址：	313000 浙江省湖州市市辖***	国省代码：	浙江;33
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摘要：
搜索关键词：	通过旋转振动光源改善用于成型光照均匀方法
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【说明书】：

本发明公开了微纳成型设备中用旋转或振动光源改善光均匀度的作法，可应用于微纳加工领域中的光刻机上。包括用于微纳成型的光源系统由多组点光源阵列构成；将用于微纳成型的光照对象放置于隔绝振动的平台上；在微纳成型的过程中，对光源系统施加振动或旋转的运作方式，来改善照射于光照对象上的光照均匀度问题。本发明通过对光源系统施加振动或旋转的运作方式，改善光照对象的光照均匀度，可适用于多种类型的点光源阵列组成的光源系统。

技术领域

本发明涉及微纳制造的光刻机光照技术领域，具体说，涉及一种改善微纳成型光照均匀度方法。

背景技术

在微纳制造的技术领域，面对微纳制造领域中微纳成型尺寸愈来愈小且精度要求愈来愈高的现状，对于影响微纳成型技术的光源将主导主要技术的门槛，其中微纳成型是指微米、纳米量级的光刻、光固化或其他光学加工成形技术。对于可用于微纳成型光照的LED或LD阵列式的点光源而言，由于多点光源构成将造成光照对象的受光不均，光照对象受光不均将直接影响到微纳成型的最终效果，因此需要一种用于改善微纳成型的光照均匀度的方法。

发明内容

为了克服现有技术方案的不足，本发明提出了改善光照均匀度的方法，能有效的解决背景技术提出的问题。

本发明所采用的技术方案如下：

旋转或振动光源来改善用于微纳成型的光照均匀度的方法，主要利用旋转或振动光源改善微纳成型的光照均匀度，包括以下步骤：

步骤一：将由多组点光源阵列构成光源系统的微纳成型设备，加入光源的旋转与振动设计，并设计将放置光照对象的平台与光源系统完全隔绝振动；

步骤二：在微纳成型的过程中，对光源系统施加特定振动或旋转的运作方式，来改善照射于光照对象上的点光源光线均匀度问题。

优选地，所述微纳成型是指微米、纳米量级的光刻、光固化或其他光学加工成型技术。

优选的，所述所述点光源指紫外光发光二极管点光源、紫外光雷射二极体点光源或其他可用于集成的紫外光或深紫外光点光源。

优选地，所述光照对象，可以是光刻胶材料、光固化材料或其他用于微纳成型的材料。

优选地，所述隔绝振动的平台作用是避免光源系统的振动或旋转造成干扰光照成型结果，利用将设备隔绝阻断的设计来达到。

优选地，所述对光源系统施加垂直于平行光照平面方向的振动或平行光照平面方向的旋转运作方式，其中振动的运作方式将采用小幅度振幅与频率进行，旋转的运作方式将采用小幅度往返转速或周期进行。

优选地，所述对光源系统施加振动或旋转的运作方式可以同时进行、同时交替进行或者单独进行。