[发明专利]通过旋转或振动光源来改善用于微纳成型的光照均匀度的方法

权利要求书

1.微纳成型设备中用旋转或振动光源改善光均匀度的作法，其特征在于：微纳成型设备通过对多组点光源隔绝施加旋转或振动方式，改善原本点光源光照均匀度的作法。

2.根据权利要求1所述的微纳成型设备中用旋转或振动光源改善光均匀度的作法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一：将由多组点光源阵列构成光源系统的微纳成型设备，加入光源的旋转与振动设计，并设计将放置光照对象的平台与光源系统完全隔绝振动；

步骤二：在微纳成型的过程中，对光源系统施加特定振动或旋转的运作方式，来改善照射于光照对象上的点光源光线均匀度问题。

3.根据权利要求2所述的微纳成型设备中用旋转或振动光源改善光均匀度的作法，其特征在于：所述微纳成型是指微米、纳米量级的光刻、光固化或其他光学加工成型技术。

4.根据权利要求2所述的微纳成型设备中用旋转或振动光源改善光均匀度的作法，其特征在于：所述点光源指紫外光发光二极管点光源、紫外光雷射二极体点光源或其他可用于集成的紫外光或深紫外光点光源。

5.根据权利要求2所述的微纳成型设备中用旋转或振动光源改善光均匀度的作法，其特征在于：所述光照对象，可以是光刻胶材料、光固化材料或其他用于微纳成型的材料。

6.根据权利要求2所述的微纳成型设备中用旋转或振动光源改善光均匀度的作法，其特征在于：所述隔绝振动的平台作用是避免光源系统的振动或旋转造成干扰光照成型结果，利用将设备隔绝阻断的设计来达到。

7.根据权利要求2所述的微纳成型设备中用旋转或振动光源改善光均匀度的作法，其特征在于：所述对光源系统施加垂直于平行光照平面方向的振动或平行光照平面方向的旋转运作方式，其中振动的运作方式将采用小幅度振幅与频率进行，旋转的运作方式将采用小幅度往返转速或周期进行。

8.根据权利要求2所述的微纳成型设备中用旋转或振动光源改善光均匀度的作法，其特征在于：所述对光源系统施加振动或旋转的运作方式可以同时进行、同时交替进行或者单独进行。

9.根据权利要求2所述的微纳成型设备中用旋转或振动光源改善光均匀度的作法，其特征在于：所述对光源系统施加振动或旋转的运作方式，其中运作方式可依据实际光照成型结果进行调整，主要通过调整各区域的点光源密度，与振动或旋转搭配运行来改善。

10.根据权利要求2所述的微纳成型设备中用旋转或振动光源改善光均匀度的作法，其特征在于：所述对光源系统施加振动或旋转的运作方式可通过智能化模拟光源系统的各种运作方式来找到最佳化振动或旋转的运作方式。