[发明专利]多层结构屏幕的异物缺陷区分方法、电子设备及存储介质

说明书

本申请是关于一种多层结构屏幕的异物缺陷区分方法。该方法包括：将待测的多层结构屏幕的显示画面切换为白色画面；在M个方向的表面光源的切换照射下对多层结构屏幕进行拍摄，使得待测缺陷在白色画面中产生阴影，得到M个目标检测图像；分别根据M个目标检测图像获取待测缺陷的缺陷主体轮廓以及缺陷阴影轮廓；根据缺陷主体轮廓确定第一灰度直方图，并根据缺陷阴影轮廓确定第二灰度直方图；根据第一灰度直方图以及第二灰度直方图确定缺陷主体轮廓与缺陷阴影轮廓之间的推土距离EMD；将EMD与预设阈值对比，根据对比结果确定待测缺陷的缺陷类型。本申请提供的方案，能够准确区分待测缺陷的缺陷类型，降低多层结构屏幕的异物缺陷误判率。

技术领域

本申请涉及视觉检测技术领域，尤其涉及多层结构屏幕的异物缺陷区分方法、电子设备及存储介质。

背景技术

在多层结构屏幕的自动缺陷检测时存在很多的干扰，其中表面灰尘缺陷与屏幕内部异物缺陷的区分就是行业内难以解决的问题。多层结构屏幕表面的透明保护层和显像层之间存在一定的距离，当显像层的显示画面为白色画面时，在单侧表面光源的照射下表面灰尘缺陷与屏幕内部异物缺陷的会形成迎光面亮点以及背光面阴影，而且表面灰尘缺陷在白色画面中所产生的阴影会与表面灰尘的缺陷主体之间存在一定距离，但现有技术中一般会利用迎光面亮点来对表面灰尘缺陷与屏幕内部异物缺陷进行区分，容易出现误判的情况，从而无法达到节约人力成本和提高效率的目的，反而需要大量的人员进行二次确认大大降低了生产的效率和资源的浪费。

在现有技术中，公开号为CN101988908A（用于对基板的缺陷进行区分的方法和系统）的专利中，提出一种区分表面缺陷与内部缺陷的方法，通过将照明单元打亮透明或半透明基板的其中一个表面；将第一成像单元和第二成像单元设置在基板的另一相对表面的外侧并使第一成像单元的光轴和第二成像单元的光轴之间的夹角大于零，通过图像构建模块分别根据第一成像单元和第二成像单元所拍摄的图像，构建基板的两个图像；通过图像处理模块根据缺陷在构建的两个图像中的位置的相互关系，检测缺陷是位于基板的表面上的缺陷还是位于基板的内部的缺陷。

上述现有技术存在以下缺点：该方案通过缺陷在不同图像中的相互关系来对表面缺陷和内部缺陷进行区分判断，在改变拍摄角度的过程中，表面缺陷和内部缺陷容易发生相互遮挡，从而影响其相互关系的判断，容易造成误判。因此，需要通过阴影的距离特征来确定多层结构屏幕中的待测缺陷的缺陷类型，降低多层结构屏幕的缺陷类型的误判率。

发明内容

为克服相关技术中存在的问题，本申请提供一种多层结构屏幕的异物缺陷区分方法，该多层结构屏幕的异物缺陷区分方法，能够准确区分待测缺陷的缺陷类型，降低多层结构屏幕的异物缺陷误判率。

本申请第一方面提供一种多层结构屏幕的异物缺陷区分方法，包括：

将待测的多层结构屏幕的显示画面切换为白色画面；

在M个方向的表面光源的切换照射下对多层结构屏幕进行拍摄，使得待测缺陷在白色画面中产生阴影，得到M个目标检测图像；M为大于2的整数；

分别根据M个目标检测图像获取待测缺陷的缺陷主体轮廓以及缺陷阴影轮廓；

根据缺陷主体轮廓确定第一灰度直方图，并根据缺陷阴影轮廓确定第二灰度直方图；

根据第一灰度直方图以及第二灰度直方图确定缺陷主体轮廓与缺陷阴影轮廓之间的推土距离EMD；

将EMD与预设阈值对比，根据对比结果确定待测缺陷的缺陷类型，缺陷类型包括内部异物缺陷和表面灰尘缺陷。

在一种实施方式中，根据第一灰度直方图以及第二灰度直方图确定缺陷主体轮廓与缺陷阴影轮廓之间的推土距离EMD，包括：

根据第一灰度直方图以及第二灰度直方图确定距离描述矩阵；

根据距离描述矩阵确定EMD表达式；