[发明专利]缺陷点的修补方法、阵列基板和显示面板有效

专利信息
申请号: 202111044072.2 申请日: 2021-09-07
公开(公告)号: CN113725155B 公开(公告)日: 2023-07-25
发明(设计)人: 杨夕岚 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L21/768 分类号: H01L21/768;H01L27/12
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 官建红
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 缺陷 修补 方法 阵列 显示 面板
【权利要求书】:

1.一种缺陷点的修补方法,其特征在于,包括:

提供一待修补结构,所述待修补结构包括依次层叠设置的导电层和绝缘层,所述导电层具有一表面和与所述表面相邻设置的侧面,所述表面位于所述导电层靠近所述绝缘层的一侧;

对所述绝缘层进行处理形成通孔和过孔,所述通孔贯穿所述绝缘层以暴露所述表面,所述过孔暴露所述侧面,所述通孔和所述过孔贯通,所述过孔的宽度小于所述通孔的宽度;以及

在所述绝缘层以及所述导电层上形成修复层,所述修复层与所述表面和所述侧面连接。

2.根据权利要求1所述的缺陷点的修补方法,其特征在于,分别采用第一激光和第二激光处理所述绝缘层形成通孔和过孔。

3.根据权利要求2所述的缺陷点的修补方法,其特征在于,所述第一激光和所述第二激光为纳秒激光。

4.根据权利要求1所述的缺陷点的修补方法,其特征在于,所述导电层为数据线、扫描线、电源走线、公共电极线和时钟信号线中的一种或几种组合。

5.根据权利要求4所述的缺陷点的修补方法,其特征在于,所述绝缘层为钝化层,所述导电层为数据线。

6.根据权利要求1所述的缺陷点的修补方法,其特征在于,在所述绝缘层以及所述导电层上形成修复层的步骤中,包括:

在所述导电层以及所述绝缘层上设置修复层材料,固化所述修复层材料形成修复层,所述修复层材料为银。

7.一种阵列基板,其特征在于,包括:

导电层和绝缘层,所述导电层和所述绝缘层依次层叠设置,所述导电层具有一表面和与所述表面相邻设置的侧面,所述表面位于所述导电层靠近所述绝缘层的一侧,所述绝缘层具有通孔和过孔,所述通孔贯穿所述绝缘层以暴露所述表面,所述过孔暴露所述侧面,所述通孔和所述过孔贯通,所述过孔的宽度小于所述通孔的宽度;以及

修复层,所述修复层设置于所述绝缘层上,并延伸入所述通孔和所述过孔中以与所述表面和所述侧面连接。

8.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括如权利要求7所述的阵列基板。

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