[发明专利]一种金属抛光方法

权利要求书

1.一种金属抛光方法，其特征在于，包括：

步骤S1，采用温和的电解条件对被抛光工件进行水溶液电解抛光，使被抛光工件的表面达到初步光亮度；

步骤S2，采用圆球状固体的电解质对表面达到初步光亮度的被抛光工件进行复合电解抛光，使被抛光工件的表面达到最终的镜面光亮度。

2.根据权利要求1所述的金属抛光方法，其特征在于，所述步骤S1中温和的电解条件具体包括：电解质采用盐类，浓度1％-50％；水溶液pH值：5-9。

3.根据权利要求2所述的金属抛光方法，其特征在于，所述盐类包括以下任一种：中性盐类、强酸弱碱盐、强碱弱酸盐。

4.根据权利要求2所述的金属抛光方法，其特征在于，所述步骤S1中温和的电解条件还包括：电解温度：30-80℃；阳极：被抛光工件；阴极：导电材料；阳极电流密度：10-200A/dm²；电解时间：10s-10min。

5.根据权利要求1所述的金属抛光方法，其特征在于，所述步骤S2中圆球状固体的电解质具体是电导率为1-1000S·m^-1、粒径为0.01-0.5cm的圆球状固体的电解质。

6.根据权利要求5所述的金属抛光方法，其特征在于，所述圆球状固体的电解质包括以下任一种：导电高聚物、多孔陶瓷、多孔高聚物、分子筛、多孔硅胶。

7.根据权利要求1所述的金属抛光方法，其特征在于，所述步骤S2的电解条件具体包括：阳极：被抛光工件；阳极电流密度：1-50A/dm²；电解温度：0-80℃；电解时间：10min-1h；圆球状固体的电解质与被抛光工件的相对移动速度为0.1cm/s-50cm/s。

8.根据权利要求1所述的金属抛光方法，其特征在于，所述初步光亮度对应的表面粗糙度Ra值为0.5-0.1μm，所述镜面光亮度对应的表面粗糙度Ra值为0.05-0.012μm。