[发明专利]清洁设备及控制方法、可移动设备

权利要求书

1.一种清洁设备，其特征在于，包括：

设备本体；

同心设置于所述设备本体上的内层转盘及外层转盘；所述内层转盘与所述外层转盘相对所述设备本体能够以转盘中心为旋转轴旋转；

设置于所述设备本体上，所述内层转盘对应第一区域的第一施力组件及所述外层转盘对应第二区域的第二施力组件；

控制组件，用以控制所述内层转盘及外层转盘旋转，且旋转方向相反；并根据行走方向，通过所述第一施力组件及所述第二施力组件向所述内层转盘以及所述外层转盘施加作用力，使得所述内层转盘与待清洁表面之间产生第一摩擦力，以及所述外层转盘与所述待清洁表面之间产生第二摩擦力，并在所述第一摩擦力和所述第二摩擦力作用下控制所述设备本体在所述待清洁表面沿所述行走方向行走；

所述控制组件根据行走方向，通过所述第一施力组件及所述第二施力组件向所述内层转盘以及所述外层转盘施加作用力包括：

所述控制组件根据行走方向，通过第一施力区域设置的第一施力组件向所述内层转盘施加作用力，以及通过第二施力区域设置的第二施力组件向所述外层转盘施加作用力；其中，所述第一施力区域位于所述第一区域中，相对于所述行走方向平行的对称轴对称的两侧区域中的第一侧区域，所述第二施力区域位于所述第二区域中，相对于所述行走方向平行的对称轴对称的两侧区域中的第二侧区域，所述第一侧区域与所述第二侧区域不同侧。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，还包括设置于所述内层转盘朝向所述设备本体的表面上的第一受力组件，以及设置于所述外层转盘朝向所述设备本体的表面上的第二受力组件；

所述控制组件根据行走方向，通过所述第一施力组件及所述第二施力组件向所述内层转盘以及所述外层转盘施加作用力包括：

所述控制组件根据行走方向，通过所述第一施力组件向所述第一受力组件施加作用力，以及通过所述第二施力组件向所述第二受力组件施加作用力。

3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述控制组件根据行走方向，通过所述第一施力组件向所述第一受力组件施加作用力，以及通过所述第二施力组件向所述第二受力组件施加作用力包括：

所述控制组件根据行走方向，确定所述第一区域中的第一施力区域以及所述第二区域中的第二施力区域；通过所述第一施力区域设置的第一施力组件向所述第一受力组件施加作用力，以及通过所述第二施力区域设置的第二施力组件向所述第二受力组件施加作用力；其中，所述第一施力区域位于所述第一区域中，相对于所述行走方向平行的对称轴对称的两侧区域中的第一侧区域；所述第二施力区域位于所述第二区域中，相对于所述行走方向平行的对称轴对称的两侧区域中的第二侧区域；其中，所述第一侧区域与所述第二侧区域不同侧。

4.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述第一施力组件在所述第一区域上均匀分散设置；所述第二施力组件在所述第二区域上均匀分散设置；

所述第一受力组件在所述内层转盘上均匀分散设置，所述第二受力组件在所述外层转盘上均匀分散设置。

5.根据权利要求3所述的设备，其特征在于，所述第一施力组件、所述第二施力组件、所述第一受力组件及所述第二受力组件包括磁性组件；所述控制组件包括多个控制电路；

所述控制组件通过所述第一施力区域设置的第一施力组件向所述第一受力组件施加作用力，以及通过所述第二施力区域设置的第二施力组件向所述第二受力组件施加作用力包括：

所述控制电路控制向所述第一施力区域设置的第一施力组件提供工作电压，使得所述第一施力区域中的第一施力组件产生磁场，并基于所述磁场向所述第一受力组件施加作用力，以及向所述第二施力区域设置的第二施力组件提供工作电压，使得所述第二施力区域中的第二施力组件产生磁场，并基于所述磁场向所述第二受力组件施加作用力。

6.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，所述第一施力组件及所述第二施力组件包括电磁铁，所述第一受力组件及所述第二受力组件包括永磁体。