[发明专利]一种硅片加工后清洗剂组合物在审
| 申请号： | 202111008614.0 | 申请日： | 2021-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN113667546A | 公开（公告）日： | 2021-11-19 |
| 发明（设计）人： | 雷红;雷逸凡;杨小强;陈巍巍 | 申请（专利权）人： | 昆山捷纳电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/22 | 分类号： | C11D1/22;C11D1/29;C11D1/72;C11D3/37;C11D3/30;C11D3/04;C11D3/60 |
| 代理公司： | 北京喆翙知识产权代理有限公司 11616 | 代理人： | 曹利华 |
| 地址： | 215300 江苏省苏州市昆*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 加工 洗剂 组合 | ||
【权利要求书】：
1.一种硅片表面加工后的清洗剂组合物，其特征在于，包括有机高分子絮凝剂。
2.根据权利要求1所述的一种硅片表面加工后的清洗剂组合物，其特征在于，具有以下的组成成分及其重量百分含量：
3.根据权利要求2所述的一种硅片表面加工后的清洗剂组合物，其特征在于，所述表面活性剂为水溶性表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠、十二烷基聚氧乙烯醚硫酸钠、平平加O-15中的一种。
4.根据权利要求2所述的一种硅片表面加工后的清洗剂组合物，其特征在于，所述渗透剂为渗透剂T或渗透剂JFC。
5.根据权利要求2所述的一种硅片表面加工后的清洗剂组合物，其特征在于，所述有机高分子絮凝剂包括聚丙烯酰胺、季铵化的聚丙烯酰胺、聚丙烯酸-聚丙烯酰胺共聚物、苯乙烯磺酸共聚物中的一种或多种，且所述有机高分子絮凝剂的数均分子量为Mn＝10万-100万。
6.根据权利要求2所述的一种硅片表面加工后的清洗剂组合物，其特征在于，所述碱为有机或无机碱。
7.根据权利要求6所述的一种硅片表面加工后的清洗剂组合物，其特征在于，所述碱为氢氧化钠、氢氧化钾、乙醇胺、四甲基氢氧化铵中的一种。
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