[发明专利]一种蠕虫形氧化硅磨粒及其制备方法和应用在审
申请号: | 202111008612.1 | 申请日: | 2021-08-31 |
公开(公告)号: | CN113716568A | 公开(公告)日: | 2021-11-30 |
发明(设计)人: | 雷红;丁振宇 | 申请(专利权)人: | 昆山捷纳电子材料有限公司 |
主分类号: | C01B33/021 | 分类号: | C01B33/021;C09G1/02 |
代理公司: | 北京喆翙知识产权代理有限公司 11616 | 代理人: | 曹利华 |
地址: | 215300 江苏省苏州市昆*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 蠕虫 氧化 硅磨粒 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种蠕虫形氧化硅磨粒的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
S01:晶种的制备:将L-赖氨酸溶于去离子水中,加入正硅酸乙酯,恒温水浴搅拌下反应12h;逐滴滴加正硅酸乙酯;滴加完毕继续恒温水浴搅拌下反应24小时,得到固含量为6.0-8.0wt.%、粒径为10~20nm的球形氧化硅晶种溶液;
S02:蠕虫形氧化硅粒子的制备:取步骤S01得到的球形氧化硅晶种溶液,搅拌条件下添加到含用L-赖氨酸和CaCl2的去离水中,加入正硅酸乙酯,恒温水浴搅拌下反应12h,得到蠕虫形氧化硅粒子;
S03:活性硅酸对蠕虫形氧化硅粒子的生长加固:将步骤S02得到的蠕虫形二氧化硅粒子溶液加热至沸腾,充分搅拌下,逐渐加入固含量为2.0-2.4%的活性硅酸溶液;在反应过程中,通过控制硅酸溶液的滴加速率和水的蒸发速率,使液位保持恒定;同时,添加1wt.%氢氧化钠溶液,以确保反应体系的pH为9.0-10;停止添加完硅酸溶液后,溶液进一步反应1小时,冷却得到蠕虫形氧化硅磨粒。
2.根据权利要求1所述蠕虫形氧化硅磨粒的制备方法,其特征在于,所述蠕虫形氧化硅磨粒的纵横比为1.8~8.3。
3.根据权利要求1所述蠕虫形氧化硅磨粒的制备方法,其特征在于,所述步骤S01中正硅酸乙酯和L-赖氨酸的质量比为350:1。
4.根据权利要求1所述蠕虫形氧化硅磨粒的制备方法,其特征在于,所述步骤S02中L-赖氨酸和CaCl2的质量比为2.5~5:1;氧化硅晶种溶液与L-赖氨酸的质量比为125:1;加入的正硅酸乙酯与氧化硅晶种溶液的质量比为0.35:1。
5.根据权利要求1所述蠕虫形氧化硅磨粒的制备方法,其特征在于,所述步骤S03中活性硅酸溶液的制备方法为:将水玻璃用去离子水稀释到固含量约为8wt.%的硅酸钠水溶液,并经过阳离子交换树脂得到固含量为2.0-2.4%的活性硅酸溶液。
6.根据权利要求1所述蠕虫形氧化硅磨粒的制备方法,其特征在于,所述步骤S03中活性硅酸溶液与蠕虫形二氧化硅粒子胶体溶液的质量比为2:1。
7.一种蠕虫形氧化硅磨粒,其特征在于,所述蠕虫形氧化硅磨粒采用权利要求1所述的制备方法得到,且所述氧化硅磨粒的的纵横比为1.8~8.3。
8.一种含有蠕虫形氧化硅磨粒的抛光液,其特征在于,包括权利要求书1~7中任意一项所述的蠕虫形氧化硅磨粒。
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