[发明专利]一种长条形光学玻璃多面图形化光学镀膜加工工艺在审
申请号: | 202110958176.8 | 申请日: | 2021-08-20 |
公开(公告)号: | CN113651544A | 公开(公告)日: | 2021-11-16 |
发明(设计)人: | 吴岳;韩威风;李涛 | 申请(专利权)人: | 杭州美迪凯光电科技股份有限公司 |
主分类号: | C03C17/34 | 分类号: | C03C17/34;C03C17/00;C03B33/08;B08B11/04;B41M1/12;B41M1/34;B41M3/00;C23C14/24 |
代理公司: | 杭州华知专利事务所(普通合伙) 33235 | 代理人: | 张德宝 |
地址: | 310000 浙江省杭州市杭州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 条形 光学玻璃 多面 图形 光学 镀膜 加工 工艺 | ||
本发明公开了一种长条形光学玻璃多面图形化光学镀膜加工工艺。本发明工艺选用保护油墨采用丝印方式搭配镀膜工艺完成片状图形化镀膜加工,结合高温发泡胶带粘合工艺对片状镀膜品进行粘合从而完成外形尺寸的条形加工,再同样经丝印保护油墨镀膜完成单条另外两面图形化镀膜加工,针对图形对位精度可通过激光切割十字标记进行丝印保护油墨对位确认。最终经脱胶工艺完成最终产品加工。解决现有工艺因片尺寸厚度太厚(超过10mm)无法进行光刻,且因片形状为条形无法进行涂胶、显影等工序作业的问题。
技术领域
本发明涉及光学镀膜加工领域,尤其涉及一种长条形光学玻璃多面图形化光学镀膜加工工艺。
背景技术
现有半导体的涂胶-光刻-显影工艺因片尺寸厚度太厚(超过10mm)无法进行光刻,且因片形状为条形无法进行涂胶、显影等工序作业。因此急需研发出一种形状为条形的光学玻璃多面图形化光学镀膜加工工艺。
发明内容
为解决上述技术问题,本发明设计了一种长条形光学玻璃多面图形化光学镀膜加工工艺。
本发明采用如下技术方案:
一种长条形光学玻璃多面图形化光学镀膜加工工艺,其工艺步骤为:
S1:激光切割:选取2mm-20mm厚度的光学玻璃基板,依据产品的外形尺寸找到光学玻璃基板中心,依据实际加工产品的图形化镀膜的尺寸大小选择无效区,采用激光切割做多个长宽为3mm 的十字对位确认标记,用于片状下正反两面图形化印刷相对位置的准确对位标记;
S2:超声波清洗:对光学玻璃基板表面进行超声波清洗;
S3:第一面丝印保护油墨:将保护油墨覆盖至网板整个图形化区域,下降网板高度使网板与产品表面接触,然后倾斜30°刮板均匀刮过丝印图形化区域,对光学玻璃基板表面进行第一面丝印保护油墨;
S4:烘烤:第一面丝印保护油墨后,将产品放置在烤箱中使用80℃-100℃ 烘烤30mins,进行保护油墨完全固化;
S5:Plasma清洗:固化后,将产品通过Plasma清洗;
S6: 超声波清洗:将产品Plasma清洗后通过超声波纯水清洗;
S7:第一面蒸发镀膜:将清洗后产品进行第一面蒸发镀膜;
S8: 超声波清洗:将完成第一面蒸发镀膜的产品进行超声波清洗,同时翻转产品后清洗表面;
S9:第二面丝印保护油墨:将保护油墨覆盖至网板整个图形化区域,下降网板高度使网板与产品表面接触,然后倾斜30°刮板均匀刮过丝印图形化区域,对光学玻璃基板表面进行第二面丝印保护油墨;
S10:烘烤:第二面丝印保护油墨后,将产品放置在烤箱中使用80℃-100℃ 烘烤30mins,进行保护油墨完全固化;
S11:Plasma清洗:固化后,将产品通过Plasma清洗;
S12: 超声波清洗:将产品Plasma清洗后通过超声波纯水清洗;
S13:第二面蒸发镀膜:将清洗后产品进行第二面蒸发镀膜;
S14: 超声波清洗:将完成第二面蒸发镀膜的产品表面进行超声波清洗;
S15:粘合:将双面高温发泡胶带分别粘合在两侧镀膜表面,将TTV (TTV是硅单晶片在厚度测量值中的最大厚度与最小厚度的差值,称作硅片的总厚度变化)在5um 以内的保护玻璃贴合在双面高温发泡胶带表面,然后使用0.2Mpa-0.4Mpa压力的压合机,压合机上部压板加热至85℃±5℃,下部平台同样加热至85℃±5℃,压合15分钟,完成保护玻璃的贴合;
S16:多刀分割:采用多刀分割机按照十字标记位置进行切割,将片状产品切割成条形;
S17: 抛光面加工:对切割后表面经超声波清洗、研磨、超声波清洗、抛光、超声波清洗工艺完成条形另外两面的抛光面加工;
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