[发明专利]一种大容积人造石英晶体高压釜在审

专利信息
申请号: 202110944307.7 申请日: 2021-08-17
公开(公告)号: CN113477184A 公开(公告)日: 2021-10-08
发明(设计)人: 尹利君;张璇;刘巨澜;张绍锋 申请(专利权)人: 烁光特晶科技有限公司
主分类号: B01J3/06 分类号: B01J3/06
代理公司: 北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11465 代理人: 肖莎
地址: 100018 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 容积 人造 石英 晶体 高压
【说明书】:

发明公开了一种大容积人造石英晶体高压釜,釜体内开设有反应腔,且釜体的顶端和底端均为接通反应腔的开口端,同时反应腔的内径为600至800mm、长度为12至18m、长径比为18至23;釜盖覆盖釜体顶端的开口,并通过环形密封件密封连接在釜体的顶端;环形卡箍的位置对应釜体顶端与釜盖的连接处,且环形卡箍分别卡接釜体与釜盖的外壁;布里奇曼自紧式密封结构靠近釜体底端的开口密封连接在反应腔内。本发明公开了一种大容积人造石英晶体高压釜,具有较大的容积,从而不仅可以培育更大尺寸的石英晶体,而且提高石英晶体制备质量和产能,同时可以降低单位成本。

技术领域

本发明涉及人造石英晶体高压釜技术领域,更具体的说是涉及一种大容积人造石英晶体高压釜。

背景技术

人造石英晶体是我国战略性材料,广泛应用于5G通讯、人工智能、北斗导航、光学仪器和半导体微电子等领域,是人工晶体的常青树。晶振是用人造石英晶体制造的主要产品之一,被称之为“信息产业之盐”,随着晶振小型化、高精度、高稳定、高频化和低功耗的发展要求,QMEMS工艺将逐渐成为主流制造工艺,这要求石英晶体在质量、尺寸和产能上有较大的提升。

高压釜的容积、长径比、测温点、材质、密封和安装方式等参数影响石英晶体的质量、单位成本、可靠性和一致性,同时高压釜的材质、密封和安装方式等参数也会影响石英晶体生长工艺的安全性、便捷性。

目前国内小口径(容积)的高压釜难以满足低成本、大尺寸、高品质、高一致性的石英晶体量产工艺,导致下游企业更热衷于从国外进口价廉质优的产品用于生产线,国内石英晶体材料存在的各种问题不能得到充分暴露和及时反馈,供应链保障存在风险,不能实现石英晶体可持续改进和发展。

因此,如何提供一种提高石英晶体制备质量和产能的大容积人造石英晶体高压釜是本领域技术人员亟需解决的技术问题。

发明内容

有鉴于此,本发明提供了一种大容积人造石英晶体高压釜,具有较大的容积,从而不仅可以培育更大尺寸的石英晶体,而且提高石英晶体制备质量和产能,同时可以降低单位成本。

为了实现上述目的,本发明采用如下技术方案:

一种大容积人造石英晶体高压釜,包括:

釜体,所述釜体内开设有反应腔,且所述釜体的顶端和底端均为接通所述反应腔的开口端,同时所述反应腔的内径为600至800mm、长度为12至18m、长径比为18至23;

釜盖,所述釜盖覆盖所述釜体顶端的开口,并通过环形密封件密封连接在所述釜体的顶端;

环形卡箍,所述环形卡箍的位置对应所述釜体顶端与所述釜盖的连接处,且所述环形卡箍分别卡接所述釜体与所述釜盖的外壁;

布里奇曼自紧式密封结构,所述布里奇曼自紧式密封结构靠近所述釜体底端的开口密封连接在所述反应腔内。

优选的,所述反应腔内设计压力为100-180MPa,设计温度为380-420℃。

优选的,所述釜盖的外壁靠近所述釜体的位置固定有第一凸出圈,所述釜体的外壁靠近所述釜盖的位置固定有第二凸出圈,同时所述环形卡箍上开设有第一环形卡槽,所述第一凸出圈和所述第二凸出圈对接,并均卡接在所述第一环形卡槽内;所述釜盖的外壁固定有第三凸出圈,且所述第三凸出圈与所述第一凸出圈间隔分布,所述釜体的外壁固定有第四凸出圈,且所述第四凸出圈与所述第二凸出圈间隔分布,同时所述环形卡箍上分别开设有卡接所述第三凸出圈的第二环形卡槽,以及开设有卡接所述第四凸出圈的第三环形卡槽,且所述第二环形卡槽、所述第三环形卡槽和所述第一环形卡槽沿所述环形卡箍的轴向间隔分布,同时所述第二环形卡槽和所述第三环形卡槽分居在所述第一环形卡槽的两端。

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