[发明专利]一种加速代谢晶圆研磨废弃物的方法

权利要求书

1.一种加速代谢晶圆研磨废弃物的方法，其特征在于，包含如下步骤：提供晶圆，该晶圆具有集成电路的正面与背面，该晶圆正面贴附保护胶，接着将该晶圆送入机台的研磨机构进行作业以达设定的薄度。

2.根据权利要求1所述的一种加速代谢晶圆研磨废弃物的方法，其特征在于，研磨方式分为粗磨与细磨。

3.根据权利要求2所述的一种加速代谢晶圆研磨废弃物的方法，其特征在于，研磨晶圆尺寸可为4in、6in、8in与12in。

4.根据权利要求3所述的一种加速代谢晶圆研磨废弃物的方法，其特征在于，研磨厚度最终可达12mil以下。

5.根据权利要求4所述的一种加速代谢晶圆研磨废弃物的方法，其特征在于，所述研磨机构包括研磨转轴、研磨轮、固定盘、可绕式喷管，该研磨机工作步骤如下：先以真空将晶圆吸附固定于固定盘，藉由研磨转轴与锁固于上的研磨轮与固定盘进行高速研磨作动，并经由可绕式喷管将水喷出清洗代谢研磨废弃物。

6.根据权利要求5所述的一种加速代谢晶圆研磨废弃物的方法，其特征在于，研磨转轴在粗磨时最佳转速为2100rpm～2800rpm，且其转动方向为顺时针。

7.根据权利要求5所述的一种加速代谢晶圆研磨废弃物的方法，其特征在于，研磨转轴在细磨时最佳转速为1050rpm～1250rpm，且其转动方向为顺时针。

8.根据权利要求5所述的一种加速代谢晶圆研磨废弃物的方法，其特征在于，研磨轮上设有若干个研磨齿。

9.根据权利要求5所述的一种加速代谢晶圆研磨废弃物的方法，其特征在于，固定盘材质可为陶瓷或树脂。

10.根据权利要求5所述的一种加速代谢晶圆研磨废弃物的方法，其特征在于，固定盘真空吸附压力至少为65kpa。

11.根据权利要求5所述的一种加速代谢晶圆研磨废弃物的方法，其特征在于，固定盘最佳转速为150rpm～210rpm，且其转动方向为逆时针。

12.根据权利要求5所述的一种加速代谢晶圆研磨废弃物的方法，其特征在于，可绕式喷管由一个喷嘴与多个连接件所组成。

13.根据权利要求5所述的一种加速代谢晶圆研磨废弃物的方法，其特征在于，可绕式喷管喷出为纯水。

14.根据权利要求12所述的一种加速代谢晶圆研磨废弃物的方法，其特征在于，该连接件一端固定连接于机台，另一端与喷嘴固定连接。

15.根据权利要求8所述的一种加速代谢晶圆研磨废弃物的方法，其特征在于，可绕式喷管需于研磨作动时将水喷于研磨齿上。

16.根据权利要求15所述的一种加速代谢晶圆研磨废弃物的方法，其特征在于，可绕式喷管与研磨齿最佳距离为2cm～3cm。

17.根据权利要求12所述的一种加速代谢晶圆研磨废弃物的方法，其特征在于，可绕式喷管的喷嘴与固定盘最佳距离为1cm～2cm。

18.根据权利要求12所述的一种加速代谢晶圆研磨废弃物的方法，其特征在于，可绕式喷管粗磨时的最佳喷出水流量为9l/min～10l/min。

19.根据权利要求12所述的一种加速代谢晶圆研磨废弃物的方法，其特征在于，可绕式喷管细磨时最佳喷出水流量为4l/min～7l/min。