[发明专利]一种高精度背钻制作方法在审
申请号: | 202110941983.9 | 申请日: | 2021-08-17 |
公开(公告)号: | CN113709978A | 公开(公告)日: | 2021-11-26 |
发明(设计)人: | 史宏宇;陈蓓;李志东 | 申请(专利权)人: | 深圳市华芯微测技术有限公司 |
主分类号: | H05K3/00 | 分类号: | H05K3/00;H05K3/42 |
代理公司: | 深圳中恒科专利代理有限公司 44808 | 代理人: | 王丽 |
地址: | 518116 广东省深圳市龙岗区*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高精度 制作方法 | ||
1.一种高精度背钻制作方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1、制作假靶,在芯板(1)的两侧压合铜箔(2),对铜箔进行图形转移,蚀刻出设计的图形,将多组两侧压合有铜箔(2)的芯板(1)通过PP(4)进行压合连接,形成PCB压合板(5),分层的PCB压合板(5)的目标层在进行蚀刻时预先在工艺边区域设计出残桩的目标靶(3),在进行蚀刻时预先在目标层上层的工艺边区域蚀刻出与目标靶(3)对应的假靶(6);
S2、钻测试孔,在所述PCB压合板(5)的工艺边区域钻测试孔(7),在所述PCB压合板(5)的最外层铜箔的所述测试孔(7)处设置偏位复焊盘(8);
S3、沉铜,钻出测试孔(7)后对PCB压合板(5)进行沉铜,使所述测试孔(7)金属化;
S4、板镀,对金属化后的所述测试孔(7)的沉铜进行初步增厚,使所述测试孔(7)具有可靠的导电性能;
S5、测试背钻深度,对假靶(6)处的所述测试孔(7)进行背钻,钻出背钻孔(11),测试出背钻深度;
S6、单元内背钻,在单元内的设计区域根据S5测试出的背钻深度进行背钻;
S7、负片电镀,将钻孔的背钻区域用干膜覆盖后进行电镀,使钻孔内的孔铜厚度满足客户需求。
2.根据权利要求1所述的一种高精度背钻制作方法,其特征在于:所述测试孔(7)包括信号孔(9)、导电孔(10),所述目标靶(3)、所述假靶(6)、所述偏位复焊盘(8)、所述背钻孔(11)均与所述信号孔(9)同心。
3.根据权利要求2所述的一种高精度背钻制作方法,其特征在于:测试背钻深度时,钻机钻针与所述信号孔(9)接触,所述导电孔(10)与钻机蘑菇头相连且导通。
4.根据权利要求2所述的一种高精度背钻制作方法,其特征在于:所述偏位复焊盘(8)的内径比所述信号孔(9)的直径大,所述偏位复焊盘(8)的内径比背钻后的所述背钻孔(11)的直径单边大3mil。
5.根据权利要求1所述的一种高精度背钻制作方法,其特征在于:S5中测试背钻深度时需钻过所述假靶(6)。
6.根据权利要求1所述的一种高精度背钻制作方法,其特征在于:S6中单元内背钻时,其背钻深度留有安全余量。
7.根据权利要求1-6所述的一种高精度背钻制作方法,其特征在于:所述目标靶(3)与所述信号孔(9)底部导通,所述假靶(6)位于所述目标靶(3)的上一层,所述假靶(6)与所述信号孔(9)导通,所述假靶(6)与所述导电孔(10)连接且导通,所述偏位复焊盘(8)与所述导电孔(10)导通。
8.根据权利要求1-6所述的一种高精度背钻制作方法,其特征在于:所述目标靶(3)与所述信号孔(9)导通,所述假靶(6)位于所述目标靶(3)的上一层,所述假靶(6)内径大于所述信号孔(9)的内径,所述假靶(6)的内径比钻机钻针外径小1mil,所述假靶(6)与所述导电孔(10)连接且导通,所述偏位复焊盘(8)与所述导电孔(10)导通。
9.根据权利要求1-6所述的一种高精度背钻制作方法,其特征在于:所述目标靶(3)与所述信号孔(9)导通,所述目标靶(3)所在层以上的每一层均设置有所述假靶(6),所述假靶(6)与所述信号孔(9)连接并导通,设置有多个所述导电孔(10),所述导电孔(10)的数量比所述假靶(6)的数量多1个,每一层的所述假靶(6)与相应的所述导电孔(10)连接且导通,所述偏位复焊盘(8)与所述导电孔(10)导通。
10.根据权利要求1-6所述的一种高精度背钻制作方法,其特征在于:用电涡流测距仪测量目标层的所述目标靶(3)的深度后,根据测试深度进行单元内背钻。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华芯微测技术有限公司,未经深圳市华芯微测技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110941983.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。