[发明专利]层叠基板的制造方法、层叠基板以及发光元件基板在审

专利信息
申请号: 202110929738.6 申请日: 2021-08-13
公开(公告)号: CN114975744A 公开(公告)日: 2022-08-30
发明(设计)人: 大野诚治;近藤义尚;高桥睦也 申请(专利权)人: 富士胶片商业创新有限公司
主分类号: H01L33/62 分类号: H01L33/62;G03F1/58
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 李辉;韩香花
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 层叠 制造 方法 以及 发光 元件
【权利要求书】:

1.一种层叠基板的制造方法,其对于层叠基板,利用蚀刻液将布线层的未被抗蚀剂层覆盖的一部分去除而形成布线,所述层叠基板具有:

基层,其具有截面为梯形的台面部,所述台面部具有从顶面朝向下方且朝向外侧延伸的第一斜面和具有从顶面向外侧伸出的檐状部位的第二斜面;

布线层,其生成于所述基层的上表面;以及

抗蚀剂层,其生成于所述布线层的上表面且具有与布线的形状对应的形状,

其中,将所述布线设置在覆盖所述第二斜面的檐状部位整个区域的位置上。

2.一种层叠基板的制造方法,其对于层叠基板,利用蚀刻液将布线层的未被抗蚀剂层覆盖的一部分去除而形成布线,所述层叠基板具有:

基层,其具有截面为梯形的台面部,所述台面部具有从顶面朝向下方且朝向外侧延伸的第一斜面和具有从顶面向外侧伸出的檐状部位的第二斜面;

布线层,其生成于所述基层的上表面;以及

抗蚀剂层,其生成于所述布线层的上表面且具有与布线的形状对应的形状,

其中,将所述布线设置在避开所述檐状部位的位置上。

3.根据权利要求2所述的层叠基板的制造方法,其中,

在所述布线与所述檐状部位的距离比布线的膜厚短的情况下,将布线宽度设为布线膜厚的两倍以上。

4.根据权利要求3所述的层叠基板的制造方法,其中,

在所述布线宽度方向的两侧存在第二斜面的情况下,将布线宽度设为布线膜厚的三倍以上。

5.一种层叠基板的制造方法,其对于层叠基板,利用蚀刻液将布线层的未被抗蚀剂层覆盖的一部分去除而形成布线,所述层叠基板具有:

基层,其具有截面为梯形的台面部,所述台面部具有从顶面朝向下方且朝向外侧延伸的第一斜面和具有从顶面向外侧伸出的檐状部位的第二斜面;

布线层,其生成于所述基层的上表面;以及

抗蚀剂层,其生成于所述布线层的上表面且具有与布线的形状对应的形状,

其中,以与所述檐状部位和所述第一斜面的两条以上的上边重叠的方式生成所述布线。

6.根据权利要求5所述的层叠基板的制造方法,其中,

所述第一斜面在与所述第二斜面正交的方向上延伸。

7.根据权利要求6所述的层叠基板的制造方法,其中,

形成顶面的端缘,所述顶面的端缘在相对于所述第二斜面的延伸方向及其正交方向倾斜的方向上延伸。

8.一种层叠基板,其具备:

基层,其具有截面为梯形的台面部,所述台面部具有从顶面朝向下方且朝向外侧延伸的第一斜面和具有从顶面向外侧伸出的檐状部位的第二斜面;以及

布线,其生成于所述基层的上表面,是在形成抗蚀剂层之后利用蚀刻液将布线层的未被抗蚀剂层覆盖的一部分去除而形成的,所述抗蚀剂层生成于布线层的上表面且具有与布线形状对应的形状,所述布线层生成于所述基层的上表面,

其中,所述布线设置在覆盖所述第二斜面的檐状部位整个区域的位置上。

9.一种层叠基板,其具备:

基层,其具有截面为梯形的台面部,所述台面部具有从顶面朝向下方且朝向外侧延伸的第一斜面和具有从顶面向外侧伸出的檐状部位的第二斜面;以及

布线,其生成于所述基层的上表面,是在形成抗蚀剂层之后利用蚀刻液将布线层的未被抗蚀剂层覆盖的一部分去除而形成的,所述抗蚀剂层生成于布线层的上表面且具有与布线形状对应的形状,所述布线层生成于所述基层的上表面,

其中,所述布线设置在避开所述檐状部位的位置上。

10.一种发光元件基板,其具备:

根据权利要求8或9所述的层叠基板,

其中,所述的层叠基板具有发光部,所述布线向所述发光部供给电流。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片商业创新有限公司,未经富士胶片商业创新有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110929738.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top