[发明专利]一种淀积工艺的仿真方法及装置

权利要求书

1.一种淀积工艺的仿真方法，其特征在于，包括：

获取淀积对象的初始立体结构；

根据预设的淀积反应剂的淀积参数，确定仿真淀积速率；

根据预设淀积时长，确定多个淀积时间段，以及每个淀积时间段的时长；

针对多个淀积时间段中任一目标淀积时间段，执行淀积仿真步骤，直至得到所述淀积对象在最后一个淀积时间段结束时刻的仿真立体结构；其中，所述淀积仿真步骤包括：

获取所述淀积对象在所述目标淀积时间段初始时刻的初始仿真立体结构，其中，如果所述目标淀积时间段为初始淀积时间段，则所述初始仿真立体结构为所述初始立体结构；

按照所述仿真淀积速率，在所述初始仿真立体结构的淀积剖面上进行对应时长的仿真淀积，得到所述淀积对象在所述目标淀积时间段结束时刻的待处理立体结构；

利用预设的高斯函数对所述待处理立体结构中的淀积剖面进行平滑处理，得到所述淀积对象在所述目标淀积时间段结束时刻的仿真立体结构；

其中，在所述初始仿真立体结构的淀积剖面上进行对应时长的仿真淀积，得到所述淀积对象在所述目标淀积时间段结束时刻的待处理立体结构，包括：

对所述初始仿真立体结构进行网格化处理，得到多个立体网格单元，所述立体网格单元包括多个网格面；

从所有网格面中，获取位于所述初始仿真立体结构的淀积剖面上的表面网格面；

针对所有表面顶点中任一目标顶点，根据每个共享网格面的面法线，确定所述目标顶点的目标移动方向，所述表面顶点为所述表面网格面对应的顶点，所述共享网格面为所有表面网格面中包含所述目标顶点的网格面；

将所述目标顶点按照所述仿真淀积速率沿所述目标移动方向进行对应时长的移动，得到所述目标淀积时间段结束时刻的更新目标顶点；

根据所有更新目标顶点，以及所有内部顶点，生成多个更新立体网格单元，所述内部顶点为所有网格面对应的顶点中除所述表面顶点以外的其他顶点；

根据所有更新立体网格单元，生成所述淀积对象在所述目标淀积时间段结束时刻的待处理立体结构。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对所述初始仿真立体结构进行网格化处理，包括：

如果所述目标淀积时间段为所述初始淀积时间段，则对所述初始仿真立体结构进行网格剖分；否则，对所述初始仿真立体结构中的淀积部分进行局部网格重构，所述淀积部分为所述初始仿真立体结构与所述初始立体结构的差异部分。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据每个共享网格面的面法线，确定所述目标顶点的目标移动方向，包括：

将每个共享网格面的面法线进行矢量求和，得到所述目标顶点的目标移动方向。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述利用预设的高斯函数对所述待处理立体结构中的淀积剖面进行平滑处理，包括：

将预设的高斯函数与所述待处理立体结构中的淀积剖面进行卷积运算。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述淀积反应剂的淀积参数包括所述淀积反应剂的表面化学反应速率、所述淀积反应剂的初始反应粒子浓度、所述淀积反应剂的质量传输系数和所述淀积反应剂的单位体积薄膜原子数。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述根据预设的淀积反应剂的淀积参数，确定仿真淀积速率，包括：

通过以下公式确定仿真淀积速率：

其中，v为所述仿真淀积速率，k_s为所述淀积反应剂的表面化学反应速率，h_G为所述淀积反应剂的质量传输系数，C_G为所述淀积反应剂的初始反应粒子浓度，N为所述淀积反应剂的单位体积薄膜原子数。