[发明专利]平行光学扫描检测装置在审

专利信息
申请号: 202110922823.X 申请日: 2021-08-12
公开(公告)号: CN113702287A 公开(公告)日: 2021-11-26
发明(设计)人: 陳玟茹;張峰瑜;林怡亭 申请(专利权)人: 芯圣科技股份有限公司
主分类号: G01N21/01 分类号: G01N21/01;G01N21/552;G02B26/08;G02B26/10;G02B27/09
代理公司: 北京世衡知识产权代理事务所(普通合伙) 11686 代理人: 肖淑芳
地址: 中国台湾新北市淡*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 平行 光学 扫描 检测 装置
【说明书】:

发明提供一种平行光学扫描检测装置,包括光源单元、干涉单元、分光单元、光程调整单元、复数个扫瞄单元及接收单元,光源单元提供初始光源到干涉单元,干涉单元将初始光源分成参考光源及样品光源,分光单元系将样品光源分成多个样品光源,光程调整单元将多个样品光源调整成不同光程的扫瞄光源,各扫瞄单元分别接收其中一个扫瞄光源,并以各扫瞄光源对样品进行扫瞄,而使得各扫瞄单元分别接收从样品不同位置反射或散射的检测光源,接收单元接收参考光源及各检测光源,并将参考光源及各检测光源分别进行光同调效应,使得接收单元产生不同的光程差的同调效应的光学信息,各光学信息透过计算机处理与分析同步得到样品不同位置的光学同调断层扫瞄影像。

技术领域

本发明系有关于检测装置,尤指一种同时以多个不同光程的通道对样品进行光学检测,并产生不同的光程差的同调效应的光学信息,进而可以提供给计算机处理与分析而得到样品的光学同调断层扫瞄影像之平行光学扫描检测装置。

背景技术

由维基百科可知,干涉仪(英语:Interferometry)是通过由波的叠加(通常为电磁波)引起的干涉现象来获取信息的技术。这项技术对于天文学、光纤、工程计量、光学计量、海洋学、地震学、光谱学及其在化学中的应用、量子力学、核物理学、粒子物理学、电浆物理学、遥感、生物分子间的交互作用、表面轮廓分析、微流控、应力与应变的测量、测速以及验光等领域的研究都非常重要。

再以迈克生干涉仪(英语:Michelson interferometer)而言,光源以45°角入射至一面分光镜后,分为两道互相垂直的光束,分别射至两面全反射镜,并将透射光与反射光反射回分光镜,再一次经过分光镜将透射光与反射光叠合于屏幕,以产生干涉的光束条纹。又以马赫-詹德干涉仪(Mach-Zehnder interferometer)而言,可以用来观测从单独光源发射的光束分裂成两道准直光束之后,经过不同路径与介质所产生的相对相移变化,通过调整的动作,可使不同路径但相同光程的深度讯号产生干涉,可用于检测物体不同深度的信息。

惟,传统的干涉仪都是只有一个扫瞄镜头面对检测样品,使得检验的速度受到限制,导致检测效率不高,因此亟需改善此一问题。

发明内容

有鉴于先前技术的问题,本发明之目的系提供可以在没有改变干涉仪的太多结构组成的前提下,可以同时对同一样品的不同位置进行扫瞄,并产生不同的光程差的同调效应的光学信息,使得透过计算机处理与分析各光学信息,而同步取得样品不同位置的光学同调断层扫瞄影像。

根据本发明之目的,提供一种平行光学扫描检测装置,包括光源单元、干涉单元、分光单元、光程调整单元、复数个扫瞄单元及接收单元,光源单元提供初始光源到干涉单元,干涉单元将初始光源分成参考光源及样品光源,分光单元系将样品光源分成多个样品光源,光程调整单元将多个样品光源调整成不同光程的扫瞄光源,各扫瞄单元分别接收其中一个扫瞄光源,并以各扫瞄光源对样品不同区域进行扫瞄,而使得各扫瞄单元分别接收从样品不同位置反射的检测光源,接收单元接收参考光源及各检测光源,并将参考光源及各检测光源分别进行光同调效应,使得接收单元产生不同的光程差的同调效应的光学信息,各光学信息透过计算机处理与分析同步得到样品不同位置的光学同调断层扫瞄影像。

其中,光源单元包括扫频式雷射光源产生器(swept source laser)、光放大器及光隔离器((Isolator)),扫频式雷射光源产生器与光放大器系以光纤连接,而光隔离器系设在扫频式雷射光源产生器与光放大器之间的光纤,光放大器将雷射光源放大至适合光学同调断层扫瞄的光强度的初始光源,而光隔离器(Isolator)防止初始光源回打而对扫频式雷射光源产生器造成损害。

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