[发明专利]成像控制方法及相关设备有效

专利信息
申请号: 202110910045.2 申请日: 2021-08-09
公开(公告)号: CN113364963B 公开(公告)日: 2021-11-16
发明(设计)人: 潘武;陈天钧;况璐;潘润发;赵军;李准;卢二利;周国民;刘强 申请(专利权)人: 浙江大华技术股份有限公司
主分类号: H04N5/225 分类号: H04N5/225;H04N5/235
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 何倚雯
地址: 310051 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 成像 控制 方法 相关 设备
【说明书】:

本申请公开了一种成像控制方法及相关设备,成像控制方法包括:确定成像设备的成像画面中的至少两个目标对象;调整成像设备的成像相关元件至目标位置,其中,目标位置能够使成像设备的成像平面与镜头平面呈角度设置;调整成像设备的光圈至目标光圈值,其中,目标光圈值能够使至少两个目标对象的成像清晰情况满足第一预设要求。通过该方法,可以使得后续成像中目标对象更加清晰。

技术领域

本申请涉及相机成像技术领域,特别是涉及一种成像控制方法及相关设备。

背景技术

对于相机成像而言,如何获得清晰的图像,一直是该技术领域的重要问题。在相机成像的过程中,若多个目标对象所处的平面不与镜头平面和成像平面平行,就需要调整成像设备的景深以获得关于目标对象的清晰的图像。然而,成像设备的景深调整具有一定的限度,这就使得在某些情况下,通过调整景深,也无法获得关于目标对象的清晰的图像。

因此,如何改进成像设备的成像技术,以获得更加清晰的图像,尤其是在多个目标对象所处的平面不与镜头平面和成像平面平行情况下,获得关于目标对象的清晰图像,具有非常重要的意义。

发明内容

本申请提供一种成像控制方法及相关设备。

本申请第一方面提供了一种成像控制方法,该方法包括:确定成像设备的成像画面中的至少两个目标对象;调整成像设备的成像相关元件至目标位置,其中,目标位置能够使成像设备的成像平面与镜头平面呈角度设置;调整成像设备的光圈至目标光圈值,其中,目标光圈值能够使至少两个目标对象的成像清晰情况满足第一预设要求。

因此,通过调整成像设备的成像相关元件至目标位置,使得成像设备的成像平面与镜头平面呈角度设置,实现了利用沙姆定律成像,在多个目标对象所处的平面不与镜头平面和成像平面平行的情况下,也能够获得关于目标对象的清晰图像,并且,通过调整成像设备的光圈至目标光圈值,改变了成像设备的景深,以此能够使得后续成像中目标对象更加清晰。

本申请第二方面提供了一种成像设备,设备包括成像相关元件和调整组件,成像相关元件用于形成成像画面;调整组件用于调整成像相关元件至目标位置,其中,目标位置能够使成像设备的成像平面与镜头平面呈角度设置;以及,调整成像设备的光圈至目标光圈值,其中,目标光圈值能够使成像画面中的至少两个目标对象的成像清晰情况满足第一预设要求。

本申请第三方面提供了一种成像控制设备,成像控制设备包括相互耦接的处理器和存储器,其中,处理器用于执行存储器存储的计算机程序以执行上述第一方面描述的方法。

上述方案,通过调整成像设备的成像相关元件至目标位置,使得成像设备的成像平面与镜头平面呈角度设置,实现了利用沙姆定律成像,在多个目标对象所处的平面不与镜头平面和成像平面平行的情况下,也能够获得关于目标对象的清晰图像,并且,通过调整成像设备的光圈至目标光圈值,改变了成像设备的景深,以此能够使得后续成像中目标对象更加清晰。

附图说明

图1是本申请成像控制方法第一实施例的第一流程示意图;

图2a是本申请成像控制方法中成像平面与镜头平面平行的示意图;

图2b是本申请成像控制方法中成像平面与镜头平面呈角度设置的一示意图;

图2c是本申请成像控制方法中成像平面与镜头平面呈角度设置的另一示意图;

图2d是本申请成像控制方法中成像平面与镜头平面呈角度设置的又一示意图;

图3是本申请成像控制方法第一实施例的第二流程示意图;

图4是本申请成像控制方法第一实施例的第三流程示意图;

图5是本申请成像控制方法第二实施例的流程示意图;

图6是本申请成像设备实施例的框架示意图;

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