[发明专利]一种修改二维几何边框方法及相关装置

说明书

本申请公开了一种修改二维几何边框方法，包括：将原始边框路径展开为一维路径；根据一维路径和边框修改数据生成对应的一维高度贴图；基于一维高度贴图对应的法向量偏转对一维路径进行路径绘制，得到修改后的路径数据。通过先将原始边框路径展开为一维路径，并在该一维路径的基础上生成与其对应的一位高度贴图，以便将修改数据表征在该一维高度贴图中，最后基于一维高度贴图对应的法向量偏转对一维路径进行路径绘制，得到修改后的路径数据，使得修改数据与原始的路径数据分离，降低了进行修改的复杂度，并且提高原始数据的复用率，提高了使用效率。本申请还公开了一种修改二维几何边框装置、计算设备以及计算机可读存储介质，具有以上有益效果。

技术领域

本申请涉及计算机技术领域，特别涉及一种修改二维几何边框方法、修改二维几何边框装置、计算设备以及计算机可读存储介质。

背景技术

随着信息技术的不断发展，在可视化领域可以编辑越来越多类型的图形，以便构造更加丰富的可视化图形，提高更加丰富多样的图形类型。在应用可视化的领域中，通常需要对边框进行编辑。

相关技术中，一般是通过保存编辑点再生成一个新的路径。但是，输出的结果会导致原始数据不可复原地发生了改变，也就是原始数据和变化数据耦合在了一起。这会带来一些问题，新建时较为方便，但是修改时就会较为麻烦。例如，我们都知道路径编辑中曲线编辑较为复杂，锚点编辑的方案中，修改往往需要更新点。另外这种方法由于所有的改动都要存为点，导致修改路径会增加原始几何的复杂度，在渲染中带来了复杂性，降低了边框编辑的效率。

因此，如何提高边框编辑的效率是本领域技术人员关注的重点问题。

发明内容

本申请的目的是提供一种修改二维几何边框方法、修改二维几何边框装置、计算设备以及计算机可读存储介质，以解决现有技术中修改边框较为复杂的问题。

为解决上述技术问题，本申请提供一种修改二维几何边框方法，包括：

将原始边框路径展开为一维路径；

根据所述一维路径和边框修改数据生成对应的一维高度贴图；

基于所述一维高度贴图对应的法向量偏转对所述一维路径进行路径绘制，得到修改后的路径数据。

可选的，将原始边框路径展开为一维路径，包括：

确定所述原始边框路径的起始点和多个关键点；

从所述起始点开始将所述多个关键点进行展开，得到所述一维路径。

可选的，还包括：

对所述一维路径中的起始点和关键点添加位置描述、法向量描述以及长度描述。

可选的，根据所述一维路径和边框修改数据生成对应的一维高度贴图，包括：

根据所述一维路径的长度和边框修改数据在法向量方向的偏移量生成所述一维高度贴图。

可选的，基于所述一维高度贴图对应的法向量偏转对所述一维路径进行路径绘制，得到修改后的路径数据，包括：

对所述一维路径进行线性插值，得到一系列片元；

根据所述一维高度贴图的法向量偏转对所述一系列片元的高度进行偏转，得到所述修改后的路径数据。

本申请还提供一种修改二维几何边框装置，包括：

路径展开模块，用于将原始边框路径展开为一维路径；

高度贴图生成模块，用于根据所述一维路径和边框修改数据生成对应的一维高度贴图；

路径绘制模块，用于基于所述一维高度贴图对应的法向量偏转对所述一维路径进行路径绘制，得到修改后的路径数据。