[发明专利]一种修改二维几何边框方法及相关装置

权利要求书

1.一种修改二维几何边框方法，其特征在于，包括：

将原始边框路径展开为一维路径；

根据所述一维路径的长度和边框修改数据在法向量方向的偏移量生成一维高度贴图；其中，所述一维高度贴图的数据格式为一组离散的、描述从起点开始沿着路径的等距离上的点的垂直偏移量的浮点数组；

对所述一维路径进行线性插值，得到一系列片元；

根据所述一维高度贴图的法向量偏转对所述一系列片元的高度进行偏转，得到修改后的路径数据。

2.根据权利要求1所述的修改二维几何边框方法，其特征在于，将原始边框路径展开为一维路径，包括：

确定所述原始边框路径的起始点和多个关键点；

从所述起始点开始将所述多个关键点进行展开，得到所述一维路径。

3.根据权利要求2所述的修改二维几何边框方法，其特征在于，还包括：

对所述一维路径中的起始点和关键点添加位置描述、法向量描述以及长度描述。

4.一种修改二维几何边框装置，其特征在于，包括：

路径展开模块，用于将原始边框路径展开为一维路径；

高度贴图生成模块，用于根据所述一维路径的长度和边框修改数据在法向量方向的偏移量生成一维高度贴图；其中，所述一维高度贴图的数据格式为一组离散的、描述从起点开始沿着路径的等距离上的点的垂直偏移量的浮点数组；

路径绘制模块，用于对所述一维路径进行线性插值，得到一系列片元；根据所述一维高度贴图的法向量偏转对所述一系列片元的高度进行偏转，得到修改后的路径数据。

5.根据权利要求4所述的修改二维几何边框装置，其特征在于，所述路径展开模块，包括：

节点确定单元，用于确定所述原始边框路径的起始点和多个关键点；

节点展开单元，用于从所述起始点开始将所述多个关键点进行展开，得到所述一维路径。

6.根据权利要求5所述的修改二维几何边框装置，其特征在于，还包括：

描述添加单元，用于对所述一维路径中的起始点和关键点添加位置描述、法向量描述以及长度描述。

7.一种计算设备，其特征在于，包括：

存储器，用于存储计算机程序；

处理器，用于执行所述计算机程序时实现如权利要求1至3任一项所述的修改二维几何边框方法的步骤。

8.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求1至3任一项所述的修改二维几何边框方法的步骤。