[发明专利]一种微焦点射线源用分辨率测试卡及其制备方法

说明书

本发明提供一种微焦点射线源用分辨率测试卡及其制备方法，包括以下步骤：对基体进行预处理，使表面洁净；在洁净的基体上生长一层重金属层；在重金属层上甩涂一层光刻胶，并烘烤固形；设计分辨率测试卡图案，并转换成激光直写设备可识别的代码；将基体放置于曝光平台，使除所需图案以外区域的光刻胶曝光；将曝光后的基体置于显影液中浸泡，待分辨率测试卡图像显现后，清洗并烘干；去除掉没有光刻胶保护区域的薄膜，结束后将基体清洗洁净；在刻蚀后的基体表面生长一层保护层，制备完成分辨率测试卡芯片；将分辨率测试卡芯片固定在中心开孔的铝板上，并在其表面做一层保护膜；大大提高了微焦点射线源空间分辨率的检测精度。

技术领域

本发明涉及微焦点射线源技术领域，尤其涉及一种微焦点射线源用分辨率测试卡及其制备方法。

背景技术

在无损检测领域，X射线源是整个系统的关键性部件，X射线源的性能指标决定整个系统的检测性能，射线源的有效焦点尺寸是射线源的重要指征，微焦点射线源的有效焦点尺寸在5-50微米之间，通常利用分辨率测试卡对其分辨率进行检测，但是，目前国内所用的分辨率测试卡主要由JIMA(日本检测仪器制造商协会)等国外公司提供，国内还没有相应的文献提供技术支持。另外，随着微焦点射线源的发展，国外提供的分辨率测试卡不能满足特定场合的应用，需要定制，而且价格昂贵。为此，研制一种微焦点射线源用分辨率测试卡，对我国无损检测行业的具有非常重要的意义。

发明内容

本发明公开的一种微焦点射线源用分辨率测试卡及其制备方法，解决了现有技术中微焦点射线源用分辨率测试卡的制备技术和分辨率测试卡的质量存在的检测问题，大大提高了微焦点射线源空间分辨率的检测精度。

为达到上述目的，本发明的技术方案具体是这样实现的：

本发明一方面公开一种微焦点射线源用分辨率测试卡制备方法，包括以下步骤：

对基体进行预处理，使表面洁净；

在洁净的基体上生长一层厚度大于1_μm的重金属层；

在重金属层上甩涂一层光刻胶，并烘烤固形；

设计分辨率测试卡图案，并转换成激光直写设备可识别的代码；

将基体放置于激光直写平台，使除所需图案以外区域的光刻胶曝光；

将曝光后的基体置于显影液中浸泡，待分辨率测试卡图像显现后，清洗并烘干；

将显影后的基体放入真空离子束刻蚀设备中，利用离子束轰击基体，去除掉没有光刻胶保护区域的薄膜，结束后将基体置于丙酮中超声清洗洁净；

在刻蚀后的基体表面生长一层保护层，制备完成分辨率测试卡芯片；

将分辨率测试卡芯片固定在中心开孔的铝板上，并在其表面做一层保护膜。

进一步地，所述分辨率测试卡图案包括横向条纹和纵向条纹，横向条纹3条，纵向条纹3条，所述横向条纹和所述纵向条纹的刻蚀宽度相同，每条所述横向条纹和每条所述纵向条纹的刻蚀长度均相同，每条横向条纹之间均匀平行分布，间隔距离与横向条纹的刻蚀宽度相同；每条纵向条纹之间均匀平行分布，间隔距离与纵向条纹刻蚀宽度相同，横向条纹整体和纵向条纹整体在所述预处理后的基体上呈现垂直分布，具体成“十”字型。

进一步地，所述基体厚度为0.2mm。