[发明专利]清洗装置和清洗方法

说明书

本发明涉及一种清洗装置，包括具有进料口和出料口的箱体结构，以及位于箱体结构内部的第一超声清洗单元、第二超声清洗单元、离子溅射单元，箱体结构内还设置有用于控制从进料口进入的待清洗件的运动状态的移动结构；第一超声清洗单元包括用于容纳超纯水的第一容纳槽，第一超声波发生结构和第一喷淋结构；第二超声清洗单元包括用于容纳酸性清洗液的第二容纳槽，第二超声波发生结构、鼓泡结构和第二喷淋结构；离子溅射单元包括第三容纳槽，惰性气体提供结构和电压提供结构，电压提供结构用于提供负电压，使得第三容纳槽内的惰性气体产生离子或原子，以对待清洗件进行离子轰击溅射。本发明还提供一种清洗方法。

技术领域

本发明涉及清洗技术领域，尤其涉及一种清洗装置和清洗方法。

背景技术

目前，外延片的生产多采用型号为300Centura外延炉，其排气管道的总长度大多在0.5m左右、内径约为50mm，且由于排气不可逆流和空间条件限制，管道存在较多的弯折结构和复杂形状。为了避免上述颗粒物堵塞尾管或出现未反应完全的高活性粉末过度沉积，因此需要定期对尾管进行清理维护。由于管道内部沉积物的活性过高，直接接触空气很容易引发爆燃事故，因此需周期性的对尾管进行拆卸清洗甚至更换。但是，尾管的清洗工作十分困难，需要专业的人员来进行操作，资金和人力的耗费都很大。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明提供一种清洗装置和清洗方法，解决外延炉排气尾管不易清洗的问题。

为了达到上述目的，本发明实施例采用的技术方案是：一种清洗装置，用于清洗外延沉积反应炉体排气管道，包括具有进料口和出料口的箱体结构，以及位于所述箱体结构内部的第一超声清洗单元、第二超声清洗单元、离子溅射单元，所述箱体结构内还设置有用于控制从所述进料口进入的待清洗件的运动状态的移动结构；

所述第一超声清洗单元包括用于容纳超纯水的第一容纳槽，第一超声波发生结构和第一喷淋结构，所述第一超声发生结构设置于所述第一容纳槽的底部，所述第一喷淋结构设置于所述第一容纳槽的侧壁上，且所述第一喷淋结构位于相应的所述侧壁靠近所述第一容纳槽的顶部的部分；

所述第二超声清洗单元包括用于容纳酸性清洗液的第二容纳槽，第二超声波发生结构、鼓泡结构和第二喷淋结构，所述鼓泡结构设置于所述第二容纳槽的侧面或者底部，所述第二喷淋结构设置于所述第二容纳槽的侧壁上，且所述第二喷淋结构设置于相应的所述侧壁靠近所述第二容纳槽的顶部的部分；

所述离子溅射单元包括第三容纳槽，惰性气体提供结构和电压提供结构，所述第三容纳槽内设置有用于承载待清洗件的载物台，所述惰性气体结构用于通过所述第三容纳槽侧壁上的气体入口向第三容纳槽内输入惰性气体，所述电压提供结构用于对所述载物台提供负电压，所述第三容纳槽的外壳接地，使得所述第三容纳槽的外壳与所述载物台之间形成压差，以击穿所述第三容纳槽内的惰性气体形成游离的离子、离子团或原子，以对待清洗件进行离子轰击溅射；

所述移动结构包括机械手臂。

可选的，还包括清洗液提供单元和排液单元；

所述清洗液提供单元包括储液结构，以及用于向所述第一容纳槽提供超纯水的第一输入管道，向所述第二容纳槽内提供酸性清洗液的第二输入管道；

所述排液单元包括废液存储结构，以及与所述第一容纳槽的底部的排液孔连通的第一输出管道，和与所述第二容纳槽的底部的排液孔连通的第二输出管道。

可选的，包括控制单元，所述控制单元包括设置于所述箱体结构外部的人机交互控制面板，

所述控制单元用于控制所述移动结构带动待清洗件在所述第一超声清洗单元、所述第二超声清洗单元和所述离子溅射单元中传输，并控制所述第一超声清洗单元、所述第二超声清洗单元和所述离子溅射单元按照预设顺序处于工作状态以对待清洗件进行清洗。