[发明专利]清洗装置和清洗方法

权利要求书

1.一种清洗装置，其特征在于，包括具有进料口和出料口的箱体结构，以及位于所述箱体结构内部的第一超声清洗单元、第二超声清洗单元、离子溅射单元，所述箱体结构内还设置有用于控制从所述进料口进入的待清洗件的运动状态的移动结构；

所述第一超声清洗单元包括用于容纳超纯水的第一容纳槽，第一超声波发生结构和第一喷淋结构，所述第一超声波发生结构设置于所述第一容纳槽的底部，所述第一喷淋结构设置于所述第一容纳槽的侧壁上，且所述第一喷淋结构位于相应的所述侧壁靠近所述第一容纳槽的顶部的部分；

所述第二超声清洗单元包括用于容纳酸性清洗液的第二容纳槽，第二超声波发生结构、鼓泡结构和第二喷淋结构，所述鼓泡结构设置于所述第二容纳槽的侧面或者底部，所述第二喷淋结构设置于所述第二容纳槽的侧壁上，且所述第二喷淋结构设置于相应的所述侧壁靠近所述第二容纳槽的顶部的部分；

所述离子溅射单元包括第三容纳槽，惰性气体提供结构和电压提供结构，所述第三容纳槽内设置有用于承载待清洗件的载物台，所述惰性气体提供结构用于通过所述第三容纳槽侧壁上的气体入口向所述第三容纳槽内输入惰性气体，所述电压提供结构用于对所述载物台提供负电压，所述第三容纳槽的外壳接地，使得所述第三容纳槽的外壳与所述载物台之间形成压差，以击穿所述第三容纳槽内的惰性气体形成游离的离子、离子团或原子，以对待清洗件进行离子轰击溅射；

所述移动结构包括机械手臂，被配置为控制待清洗件在第一超声清洗单元、第二超声清洗单元、离子溅射单元之间移动，并在待清洗件在第二超声清洗单元进行清洗时，控制待清洗件在所述第二容纳槽内沿着所述第二容纳槽的延伸方向进行上下往复移动。

2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，还包括清洗液提供单元和排液单元；

所述清洗液提供单元包括储液结构，以及用于向所述第一容纳槽提供超纯水的第一输入管道，向所述第二容纳槽内提供酸性清洗液的第二输入管道；

所述排液单元包括废液存储结构，以及与所述第一容纳槽的底部的排液孔连通的第一输出管道，和与所述第二容纳槽的底部的排液孔连通的第二输出管道。

3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，包括控制单元，所述控制单元包括设置于所述箱体结构外部的人机交互控制面板，

所述控制单元用于控制所述移动结构带动待清洗件在所述第一超声清洗单元、所述第二超声清洗单元和所述离子溅射单元中传输，并控制所述第一超声清洗单元、所述第二超声清洗单元和所述离子溅射单元按照预设顺序处于工作状态以对待清洗件进行清洗。

4.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述第二超声清洗单元还包括氮气提供结构，用于对清洗完成的待清洗件提供氮气，以去除待清洗件表面残留的水分。

5.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，还包括喷丸处理单元，所述喷丸处理单元包括一容纳腔室，所述容纳腔室的侧壁和/或顶部设置有喷枪以向待清洗件喷射石英砂；所述喷丸处理单元还包括压缩气体提供结构，用于携载石英砂形成高速喷射流，从所述喷枪喷出。

6.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，还包括使得所述箱体结构的内部压力高于外部压力的排风结构，所述排风结构包括设置于所述箱体结构的侧壁上的入风孔，以及设置于所述箱体结构的侧壁或顶部上的排气孔，所述排气孔通过气体管道与真空设备连接，以使得所述箱体结构内的压力小于外界压力。

7.一种清洗方法，通过权利要求1-6任一项所述的清洗装置实现，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1：将待清洗件放入容纳有超纯水的第一容纳槽，进行超声清洗；

步骤2：对待清洗件进行喷淋冲洗；

步骤3：将待清洗件放入容纳有酸性清洗液的第二容纳槽中，再次进行超声清洗；

步骤4：对待清洗件进行喷淋冲洗；

步骤5：对待清洗件进行离子溅射处理。