[发明专利]耐酸碱层层交联纳滤膜及其制备方法

权利要求书

1.耐酸碱层层交联纳滤膜，其特征在于，具有多孔基膜，以及在所述多孔基膜表面通过静电作用交替沉积聚阳电解质层和聚阴电解质层而形成的层层自组装复合层；其中，多孔基膜与复合层之间实现交联，同时每层相同聚电解质分子之间实现交联，聚阳电解质层与聚阴电解质层间不同聚电解质分子之间也实现交联。

2.根据权利要求1所述的耐酸碱层层交联纳滤膜，其特征在于，所述聚阳电解质为烯丙基化聚烯丙胺及其衍生物、烯丙基化聚乙烯胺及其衍生物；所述聚阴电解质为烯丙基化聚苯乙烯磺酸钠及其衍生物。

3.根据权利要求2所述的耐酸碱层层交联纳滤膜，其特征在于，所述多孔基膜为有机膜或无机膜，所述无机膜为无机超滤膜或无机微滤膜，所述有机膜的材料选自经过接枝反应而形成的烯丙基化聚砜、磺化聚砜、聚醚砜、磺化聚醚砜、磺化聚醚醚酮、聚氯乙烯、聚丙烯腈、聚酰亚胺、聚醚酰亚胺、聚偏氟乙烯、聚酯、纤维素中的一种或一种以上的混合物；所述无机膜材料选自经过接枝反应而形成的烯丙基化陶瓷或金属。

4.耐酸碱层层交联纳滤膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)将聚阳离子电解质溶解在水中，配制成聚阳离子电解质质量百分比浓度为0.1％～20％的水溶液，静置脱泡备用；

(2)将聚阴离子电解质溶解在水中，配制成聚阴离子电解质质量百分比浓度为0.1％～20％的水溶液，静置脱泡备用；

(3)将交联剂溶解在水中，配制成质量百分比浓度为1％～30％的交联剂溶液，静置脱泡备用；

(4)将多孔基膜浸泡在聚阳离子电解质溶液中1～45分钟，使聚阳离子电解质沉积在基膜上形成聚阳离子薄膜层；然后将基膜取出，用去离子水冲洗掉基膜表面的多余聚阳电解质溶液，得到具有聚阳离子薄膜层的复合膜；

(5)将具有聚阳离子薄膜层的复合膜浸泡在聚阴离子电解质溶液中1～45min，使得聚阳离子电解质与聚阴离子电解质通过静电作用沉积在基膜上，形成一个双层的聚电解质复合膜；将所形成的聚电解质复合膜取出，用去离子水冲洗掉复合膜表面多余的聚电解质溶液；

(6)进行交联反应，形成具有三维空间致密结构的复合膜。

5.根据权利要求4所述的耐酸碱层层交联纳滤膜的制备方法，其特征在于，所述交联剂为含二硫醇官能团化合物。

6.根据权利要求5所述的耐酸碱层层交联纳滤膜的制备方法，其特征在于，所述含二硫醇官能团化合物为二硫苏糖醇。

7.根据权利要求4所述的耐酸碱层层交联纳滤膜的制备方法，其特征在于，所述聚阳离子电解质为烯丙基化聚阳离子电解质，所述聚阴离子电解质为烯丙基化聚阴离子电解质。

8.根据权利要求4所述的耐酸碱层层交联纳滤膜的制备方法，其特征在于，所述交联反应条件为在波长280～390nm的紫外光下照射5～60分钟。

9.根据权利要求4-8任一所述的耐酸碱层层交联纳滤膜的制备方法，其特征在于，重复操作步骤(4)、(5)以实现所需要的层数。