[发明专利]光检测和测距系统以及光学系统在审

专利信息
申请号: 202110856771.0 申请日: 2021-07-28
公开(公告)号: CN114325727A 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: G·拉库尔吉克 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: G01S17/02 分类号: G01S17/02;G01S17/08;G01S7/481
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 黄嵩泉;张鑫
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 检测 测距 系统 以及 光学系统
【说明书】:

发明涉及光检测和测距系统以及光学系统。提供了使用第一发射结构的第一电磁辐射作为从光检测和测距系统外部接收到的第二电磁辐射的本地振荡器信号的光检测和测距系统,其中第一电磁辐射和第二电磁辐射是相干的,并且得到的信号由检测结构检测。得到的信号与光检测和测距系统外部的目标的信息相对应。

技术领域

本公开的各个方面总体上涉及光检测和测距系统领域。

背景技术

由于光检测和测距(LIDAR)固有的抗光干扰能力以及用于既检测到目标的距离又检测到目标的距离速率(目标的相对速度)的能力,光检测和测距(LIDAR)的相干性对于自主交通工具而言是所期望的。尽管存在这些属性,相干LIDAR系统仍然必须提供远距离检测能力(200米)和高数据速率(1M像素/秒),以及高光学分辨率(100垂直像素),以便在商业上可行。不幸地,相干LIDAR的性能受到检测过程中飞行时间(TOF)限制和散斑引起的波动(Swerling II)目标效应的负面影响。

TOF限制约束了由有限的光速所施加的相干LIDAR系统的数据速率和对解决多普勒模糊性的多个啁啾的需要。例如,对于300米的最大距离而言,单个光通道(激光束)的数据速率被限制为0.25M像素/秒。由于散斑,目标在相干LIDAR系统中会出现波动,并且高概率检测所需的信噪比(SNR)可以比非波动目标大10dB以上。在不进行缓解的情况下,与非相干系统相比,10dB SNR惩罚将使相干LIDAR的检测距离减少3倍。

缓解散斑以及重新获得相干LIDAR的测距性能的关键在于,在视场的每次扫描期间对每个场景像素获得多次测量,并且然后非相干地整合它们以缓解目标的波动。缺点在于,数据速率进一步降低2倍或更多,这取决于要整合的测量的数量。

对于相干LIDAR而言,光子集成电路(PIC)由于可能具有低成本和对高容量的可扩展性因此是所期望的。然而,由于PIC限制(尺寸、产量、成本),垂直通道(分辨率元素)的数量是有限的(大约10个)并且不容易扩展。

附图说明

在附图中,贯穿不同的视图,相同的附图标记一般指代相同部分。这些附图不一定是按比例的,而是一般着重于说明本发明的原理。在以下描述中,参照下面的附图描述本发明的各方面,其中:

图1图示出根据各个方面的光学系统的示意图;

图2图示出根据各方面的光检测和测距系统;

图3A至图3D图示出根据各方面的光检测和测距系统;

图4图示出根据各个方面的光学系统的光子集成电路;

图5图示出根据各方面的光检测和测距系统;以及

图6图示出根据各方面的操作光检测和测距系统的方法的流程图。

具体实施方式

以下详细描述中对附图进行参考,附图通过图示的方式示出了可在其中实施本发明的具体细节和方面。

在本申请中使用词“示例性”来意指“充当示例、实例或说明”。在本申请中被描述为“示例性”的任何方面或设计不一定被解释为相对于其它方面或设计为优选的或有优势的。

图1图示出根据各个方面的光学系统100的示意图。光学系统100可以是光检测和测距(LIDAR)系统或可以是光检测和测距(LIDAR)系统的一部分。替代地,光学系统100可以是光谱仪或显微镜或可以是光谱仪或显微镜的一部分。

在各个方面中,光学系统100包括发射结构110、控制器180、多个光学组件170或光学组件的布置170和检测结构,控制器180被配置成用于控制来自发射结构110的电磁辐射的发射。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英特尔公司,未经英特尔公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110856771.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top