[发明专利]基片处理方法和基片处理装置

权利要求书

1.一种基片处理装置，其特征在于，包括：

用于水平地保持基片的保持部；

用于使所述保持部旋转的旋转部；

用于对由所述保持部水平地保持的所述基片供给液体的液体供给部；和

用于对所述保持部、所述旋转部和所述液体供给部进行控制的控制部，

所述保持部包括：旋转盘，能够由所述旋转部使所述旋转盘旋转；第1抓持部，其能够与所述旋转盘一起旋转，并且能够在抓持所述基片的周缘的抓持位置与将所述基片释放的释放位置之间移动；和第2抓持部，其能够与所述旋转盘一起旋转，并且能够与所述第1抓持部独立地在所述抓持位置与所述释放位置之间移动，

所述控制部能够在由所述旋转部使所述保持部旋转并且对被所述保持部保持的所述基片供给液体的期间，利用所述第1抓持部和所述第2抓持部交替地抓持所述基片的周缘。

2.如权利要求1所述的基片处理装置，其特征在于：

所述保持部包括：驱动部，其用于使所述第1抓持部在所述抓持位置与所述释放位置之间移动；和传递部，其用于将所述驱动部的驱动力传递至所述第1抓持部，

所述驱动部和所述传递部能够与所述旋转盘一起旋转。

3.如权利要求2所述的基片处理装置，其特征在于：

所述驱动部包括能够与所述旋转盘一起旋转并且可在所述基片的径向上移动的滑动件，

能够通过使所述滑动件向所述基片的所述径向外侧移动，来使所述第1抓持部从所述释放位置移动至所述抓持位置。

4.如权利要求3所述的基片处理装置，其特征在于：

所述驱动部包括用于对所述滑动件向所述基片的所述径向外侧施力的弹簧。

5.如权利要求3或4所述的基片处理装置，其特征在于：

所述驱动部包括用于将所述滑动件以可在所述基片的所述径向上移动的方式收纳的缸体，

所述缸体相对于所述旋转盘被固定，

所述滑动件将所述缸体的内部空间划分为第1室和第2室，

设置有用于对所述缸体的所述第1室的压力进行调节的压力调节机构。

6.如权利要求3或4所述的基片处理装置，其特征在于：

所述驱动部包括能够与所述滑动件一起移动的杆部件，

所述传递部包括连杆，所述连杆的一端可旋转地与所述杆部件连结，并且所述连杆的另一端可旋转地与所述第1抓持部连结，

所述驱动部包括：升降杆，其用于载置所述第1抓持部与所述连杆连结的连结部；弹性膜，其用于支承所述升降杆的下端；和缸体，在所述缸体的内部包含由所述弹性膜划分的上室和下室，

所述缸体相对于所述旋转盘被固定，

设置有用于对所述缸体的所述下室的压力进行调节的压力调节机构。

7.如权利要求2～6中任一项所述的基片处理装置，其特征在于：

所述控制部能够对所述驱动部的驱动力或者驱动速度进行控制。

8.如权利要求1～7中任一项所述的基片处理装置，其特征在于：

所述第1抓持部能够以被所述旋转盘保持的水平的销为中心进行摆动，从而在所述释放位置与所述抓持位置之间移动。

9.如权利要求8所述的基片处理装置，其特征在于：

所述控制部能够在由所述旋转部使所述保持部旋转并且对被所述保持部保持的所述基片供给所述液体的期间，在由所述第2抓持部抓持所述基片的状态下，使所述第1抓持部在所述释放位置与所述抓持位置之间的中间位置和所述释放位置两者暂时停止。

10.如权利要求1～9中任一项所述的基片处理装置，其特征在于：

所述第1抓持部和所述第2抓持部沿着所述基片的周缘交替地各配置有3个以上。