[发明专利]一种5,5’位取代的3,3’-联噻吩衍生物、合成方法及其应用有效
申请号: | 202110836046.7 | 申请日: | 2021-07-23 |
公开(公告)号: | CN113603674B | 公开(公告)日: | 2022-10-14 |
发明(设计)人: | 殷燕;杨佳洁;张华;卢晓磊;杨弘;翟九龙;李甜甜;吴丽娟;杨文丰;贺帅 | 申请(专利权)人: | 上海应用技术大学 |
主分类号: | C07D333/22 | 分类号: | C07D333/22;C07D333/16;C09K11/06;G01N21/64 |
代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人: | 许耀 |
地址: | 201418 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 取代 噻吩 衍生物 合成 方法 及其 应用 | ||
本发明公开了一种5,5’位取代的3,3’‑联噻吩衍生物、合成方法及其应用。本发明通过5,5’‑二溴‑3,3’‑联噻吩和芳基炔丙醇在催化剂、助催化剂和碱性溶剂存在条件下发生Sonogashira偶联反应得到5,5’位炔醇取代的3,3’‑联噻吩衍生物;5,5’位炔醇取代的3,3’‑联噻吩衍生物在催化剂的条件下,在溶剂中发生碘阻断Meyer‑Schuster重排反应得到5,5’位碘代烯酮取代的3,3’‑联噻吩衍生物。本发明的合成方法简单,得到的5,5’位取代的3,3’‑联噻吩衍生物具有良好的荧光发射性能和金属离子识别性能,可作为有机小分子荧光材料,用于金属离子检测和荧光探针等领域。
技术领域
本发明属于小分子功能材料领域,具体涉及一种5,5’位取代的3,3’-联噻吩衍生物、合成方法及其应用。
背景技术
光电材料是指用于制造各种光电设备(主要包括各种主、被动光电传感器光信息处理和存储装置及光通信等)的材料,主要包括红外材料、激光材料、光纤材料、非线性光学材料等。光电材料产业是日渐蓬勃发展的新兴高科技产业,由于技术发展迅速,市场规模快速壮大,使得光电材料已成为世人瞩目的焦点。
噻吩类化合物因其掺杂后具有良好的稳定性、易修饰等特点,将其用于光电材料的制备上受到了广泛的关注。其中,具有对称结构的3,3’-联噻吩衍生物能够实现对噻吩骨架上电子双向传输能力的有效调控,同时延伸了噻吩环上π键的有效共轭长度。此外,其光谱响应带宽阔、摩尔消光系数高,能够实现对光子的有效吸收,因而在光电材料方面应用广泛。
发明内容
本发明的目的就是为了解决上述问题而提供一种5,5’位取代的3,3’-联噻吩衍生物、合成方法及其应用,得到的5,5’位取代的3,3’-联噻吩衍生物可以应用在金属离子检测和荧光探针领域。
本发明的目的通过以下技术方案实现:
本发明第一方面提供一种5,5’位炔醇取代的3,3’-联噻吩衍生物,具有式I所示的结构:
优选地:
Ar1选自苯、4-甲基苯、4-甲氧基苯、4-氯苯、4-氟苯、4-溴苯、4-腈苯、4-乙氧基苯、4-乙基苯、4-丁基苯、4-甲硫醚基苯、4-胺基苯、4-羟基苯、3-甲基苯、3-碘基苯、3-溴苯、3-氯苯、2-甲基苯、2-羟基苯、3,5-二甲基苯、alfa萘和beta萘其中任意一种;
Ar2选自氢、苯和4-甲基苯其中任意一种。
本发明第二方面提供所述的5,5’位炔醇取代的3,3’-联噻吩衍生物的合成方法,通过5,5’-二溴-3,3’-联噻吩和芳基炔丙醇在催化剂、助催化剂和碱性溶剂存在条件下发生Sonogashira偶联反应得到式I的化合物;其中芳基炔丙醇结构式为:
优选地,所述的一种5,5’位炔醇取代的3,3’-联噻吩衍生物的合成方法,其特征在于,所述的碱性溶剂为三乙胺,所述的催化剂为Pd(PPh3)2Cl2,所述的助催化剂为CuI。
优选地,5,5’-二溴-3,3’-联噻吩、芳基炔丙醇、Pd(PPh3)2Cl2和CuI的物质的量之比为1:1~1.2:0.05~0.15:0.02~0.08。
进一步优选地,5,5’-二溴-3,3’-联噻吩、芳基炔丙醇、Pd(PPh3)2Cl2和CuI的物质的量之比为1:1.1:0.1:0.05。反应产率为70%-98%。
本发明第三方面提供一种5,5’位碘代烯酮取代的3,3’-联噻吩衍生物,具有式Ⅱ所示的结构:
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