[发明专利]一种真空悬浮镀膜设备在审
申请号: | 202110834251.X | 申请日: | 2021-07-21 |
公开(公告)号: | CN113403610A | 公开(公告)日: | 2021-09-17 |
发明(设计)人: | 李翔;左敏;胡磊;王荣;赵昂璧;李登辉;黎微明 | 申请(专利权)人: | 江苏微导纳米科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/458 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 孔祥贵 |
地址: | 214000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空 悬浮 镀膜 设备 | ||
1.一种真空悬浮镀膜设备,其特征在于,包括外壳(1)、安装于所述外壳(1)内部的内壳(2)以及放置于所述内壳(2)内部的工件载具(3),所述内壳(2)的封闭端设置有连接抽气系统的抽气接口(4),所述内壳(2)的开放端设置有用于所述工件载具(3)进出的开口,所述外壳(1)的开放端设置有密封门(5),所述密封门(5)内侧安装有盖板(6),所述盖板(6)内侧安装有匀流板总成(7),所述密封门(5)关闭时所述盖板(6)封闭所述开口,所述匀流板总成(7)由所述开口伸入所述内壳(2),所述盖板(6)和所述匀流板总成(7)之间设置有空间间隔,所述匀流板总成(7)上设置有连通所述空间间隔和所述内壳(2)内部空间的气孔,还包括多种类型的源瓶(8),通过多个工艺气体通道(9)连通所述空间间隔,用于将多种类型的气体输送至所述空间间隔。
2.根据权利要求1所述的真空悬浮镀膜设备,其特征在于,所述匀流板总成(7)包括沿水平方向依次间隔布置的第一匀流板(71)、第二匀流板(72)和第三匀流板(73),所述第一匀流板(71)与所述盖板(6)形成所述空间间隔。
3.根据权利要求2所述的真空悬浮镀膜设备,其特征在于,所述第一匀流板(71)上设置有阵列排布的多个圆孔,所述第二匀流板(72)上设置有阵列排布的多个横长孔,所述横长孔沿水平方向延伸,所述第三匀流板(73)上设置有阵列排布的多个纵长孔,所述纵长孔沿竖直方向延伸。
4.根据权利要求3所述的真空悬浮镀膜设备,其特征在于,各所述圆孔的直径相等,各所述纵长孔的宽度相等,位于中部的所述横长孔的宽度小于位于上下两侧的所述横长孔的宽度。
5.根据权利要求4所述的真空悬浮镀膜设备,其特征在于,所述第一匀流板(71)、所述第二匀流板(72)和所述第三匀流板(73)对应位置均设置有连接孔,通过水平贯穿的连接杆(74)连接所述盖板(6)。
6.根据权利要求1所述的真空悬浮镀膜设备,其特征在于,所述密封门(5)通过支撑柱(10)连接所述盖板(6),所述支撑柱(10)上安装有用于压紧所述盖板(6)的弹簧,所述密封门(5)和所述盖板(6)之间设置有双层隔热板(11)。
7.根据权利要求1所述的真空悬浮镀膜设备,其特征在于,所述外壳(1)为圆柱套筒,所述内壳(2)为方形套筒,所述内壳(2)的封闭端为锥形结构,所述锥形结构的尖端为所述抽气接口(4)。
8.根据权利要求1所述的真空悬浮镀膜设备,其特征在于,所述内壳(2)开放端外周边缘均匀设置有四个管路接口(12),所述管路接口(12)连接所述工艺气体通道(9)。
9.根据权利要求1至8任意一项所述的真空悬浮镀膜设备,其特征在于,所述外壳(1)封闭端连接有法兰板(13),所述法兰板(13)中部设置有所述抽气接口(4)穿过的通孔。
10.根据权利要求9所述的真空悬浮镀膜设备,其特征在于,所述外壳(1)内设置有围绕所述内壳(2)的多个内加热器(14),所述内加热器(14)的端部连接所述法兰板(13)内侧,所述法兰板(13)外侧安装有外加热器(15)。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的