[发明专利]一种微透镜阵列在审

专利信息
申请号: 202110826068.5 申请日: 2021-07-21
公开(公告)号: CN113419300A 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 焦继伟;陈思奇 申请(专利权)人: 上海芯物科技有限公司
主分类号: G02B3/00 分类号: G02B3/00;G02B19/00
代理公司: 北京晋德允升知识产权代理有限公司 11623 代理人: 王戈;郑玢
地址: 201800 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 透镜 阵列
【权利要求书】:

1.一种微透镜阵列,位于衬底表面,其特征在于,包括:

位于所述衬底表面的平台结构;

以及,阵列排布于所述平台结构上方的多个微透镜结构;

当平行的入射光线穿过所述微透镜阵列覆盖所述衬底表面时,

所述平台结构的高度、所述微透镜结构的焦距以及所述衬底表面被所述入射光线覆盖的面积,三者满足以下关系:

通过分别设定的所述平台结构的高度和所述微透镜结构的焦距,使得平行的所述入射光线穿过所述微透镜结构和所述平台结构后覆盖预定面积的所述衬底表面。

2.根据权利要求1所述的微透镜阵列,其特征在于,当来自所述衬底表面的出射光线穿过所述微透镜阵列出射时,

所述平台结构的高度和所述微透镜结构的焦距,两者满足以下关系:

通过分别设定的所述平台结构的高度和所述微透镜结构的焦距,使得来自所述衬底表面的所述出射光线穿过所述微透镜结构和所述平台结构后形成平行光出射。

3.根据权利要求1所述的微透镜阵列,其特征在于,所述通过分别设定的所述平台结构的高度和所述微透镜结构的焦距,以使得平行的所述入射光线穿过所述微透镜结构和所述平台结构后覆盖预定面积的所述衬底表面包括:

通过分别设定的所述平台结构的高度和所述微透镜结构的焦距,使得所述微透镜结构的焦平面位于所述衬底表面上方,平行的所述入射光线穿过所述微透镜结构和所述平台结构后覆盖预定面积的所述衬底表面。

4.根据权利要求1所述的微透镜阵列,其特征在于,所述通过分别设定的所述平台结构的高度和所述微透镜结构的焦距,以使得入射光线穿过所述微透镜结构和所述平台结构后覆盖预定面积的所述衬底表面包括:

通过分别设定的所述平台结构的高度和所述微透镜结构的焦距,使得所述微透镜结构的焦平面位于所述衬底表面下方,平行的所述入射光线穿过所述微透镜结构和所述平台结构后覆盖预定面积的所述衬底表面。

5.根据权利要求2所述的微透镜阵列,其特征在于,所述衬底表面形成有光学器件阵列,所述光学器件包括感光器件和光源器件中的至少一种;

所述平台结构位于所述光学器件阵列上方;

所述光学器件阵列中的每个光学器件上方设定有一个所述微透镜结构;

当所述光学器件为感光器件时,所述平行的所述入射光线穿过所述微透镜结构和所述平台结构后覆盖预定面积的所述衬底表面包括:

平行的所述入射光线穿过所述微透镜结构和所述平台结构后覆盖预定面积的所述感光器件表面;

当所述光学器件为光源器件时,所述来自所述衬底表面的所述出射光线穿所述微透镜结构和所述平台结构后形成平行光出射包括:

来自所述光源器件的所述出射光线穿过所述微透镜结构和所述平台结构后形成平行光出射。

6.根据权利要求5所述的微透镜阵列,其特征在于,所述微透镜结构的中轴线按预定偏差垂直穿过所述光学器件的中心。

7.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述预定面积的所述感光器件表面为至少50%有效面积的所述感光器件表面。

8.根据权利要求1所述的微透镜阵列,其特征在于,所述阵列排布包括周期性阵列排布或非周期性整列排布中的至少一种;

所述周期性阵列排布包括矩形排布或六角型排布中的至少一种;

所述非周期性阵列排布包括啁啾排布或随机排布中的至少一种。

9.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述平台结构和多个所述微透镜结构采用一体成型形成于所述衬底表面。

10.一种光学系统,应用于衬底表面,其特征在于,包括:

形成于所述衬底表面的光学器件阵列;

以及,形成于所述光学器件阵列上方的微透镜阵列,所述微透镜阵列为上述权利要求1-9所述的微透镜阵列。

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