[发明专利]自清理窑内杂质的推板窑及清理方法

权利要求书

1.一种自清理窑内杂质的推板窑，其特征在于：包括窑体及设置于窑体内部的若干坩埚及清理装置，所述坩埚内部盛放用于处理的物料，坩埚前后依次并排设置，相邻坩埚紧密接触，所述清理装置为至少一个，至少一个清理装置设置于某两个相邻坩埚之间，清理装置与坩埚具有相同外部形状，清理装置为规则体，在规则体的上表面开设向心部延伸的第一竖槽，在规则体的左侧表面和/或右侧表面开设向心部延伸的左侧竖槽和/或右侧竖槽，在第一竖槽内部设置第一刮磨块，刮磨块的高度高于上表面，在左侧竖槽和/或右侧竖槽设置左侧刮磨块和/或右侧刮磨块，左侧刮磨块、右侧刮磨块的表面高度高于上表面的高度。

2.如权利要求1所述的自清理窑内杂质的推板窑，其特征在于：左侧刮磨块的左侧侧边突出于规则体的左侧面和/或右侧刮磨块的右侧侧边突出于规则体的右侧面。

3.如权利要求1所述的自清理窑内杂质的推板窑，其特征在于：清理装置为实心体。

4.如权利要求1所述的自清理窑内杂质的推板窑，其特征在于：左侧刮磨块、右侧刮磨块及第一刮磨块的宽度将实心体上表面的宽度方向全部覆盖。

5.如权利要求1所述的自清理窑内杂质的推板窑，其特征在于：还在第一刮磨块下方的第一竖槽内设置若干第一调整块，若干第一调整块具有厚度，用于调整第一刮磨块外露于上表面的高度；还在左侧竖槽和/或右侧竖槽内设置若干左侧调整块和/或右侧调整块。

6.如权利要求1所述的自清理窑内杂质的推板窑，其特征在于：坩埚为正方体或长方体，清理装置具有与坩埚相同的轮廓形状。

7.如权利要求1所述的自清理窑内杂质的推板窑，其特征在于：所述清理装置为两个，所述坩埚呈并列设置于窑体内部的两列，为每一列坩埚设置一个清理装置，每一个清理装置设置于某两个相邻坩埚之间；两列坩埚的两个清理装置为并列的一排或前后错位。

8.一种推板窑内自清理窑内杂质的方法，其特征在于包括以下步骤：

窑体内并排成列设置待处理的坩埚，在相邻两个坩埚之间设置至少一个清理装置，所述清理装置为权利要求1-7之一所述的清理装置；

清理装置与窑体顶部和侧壁接触，通过坩埚移动带动清理装置同步移动，移动的清理装置通过刮磨的方式清理窑体内部的杂质。

9.如权利要求8所述的推板窑内自清理窑内杂质的方法，其特征在于：还在清理装置前方设置空置的坩埚，用于承接清理装置刮磨下来的杂质。

10.如权利要求9所述的推板窑内自清理窑内杂质的方法，其特征在于：为每一列坩埚设置单独的主推油缸，通过检测主推油缸推力的变化，检测窑体内部杂质富集区的位置。