[发明专利]一种双面研磨中下定盘沟槽的清洁装置、系统以及方法

权利要求书

1.一种双面研磨中下定盘沟槽的清洁装置，其特征在于，所述清洁装置包括：

设置为一排分布的多个毛刷，所述多个毛刷能够沿设定的方向移动以清洁下定盘上横向或纵向分布的沟槽内的颗粒物；其中，每个所述毛刷由毛刷柄和毛刷头组成；

多个高压喷水管，所述每个高压喷水管对应地设置在所述每个毛刷移动方向的正后方，以在所述多个毛刷清洁所述颗粒物的过程中，通过喷射高压纯水来冲洗所述沟槽内的颗粒物。

2.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述毛刷头的长度大于所述沟槽的深度，且所述毛刷头的形状为梯形。

3.根据权利要求2所述的清洁装置，其特征在于，所述毛刷头的材质为聚醚醚酮。

4.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述每个高压喷水管喷射高压纯水的方向与对应的所述毛刷的移动方向之间的夹角为锐角。

5.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述清洁装置还包括：多个传感器以及与所述多个传感器连接的控制单元；其中，

所述每个传感器对应地设置在所述每个毛刷头的上方位置，以感测所述每个毛刷头底部位置与所述沟槽下表面之间的距离数据；

所述控制单元经配置为根据所述每个传感器感测的距离数据确定是否触发所述毛刷头对应的所述高压喷水管喷射高压纯水。

6.根据权利要求5所述的清洁装置，其特征在于，所述传感器为电涡流传感器。

7.一种双面研磨中下定盘沟槽的清洁系统，其特征在于，所述清洁系统包括：

根据权利要求1至6任一项所述的清洁装置；

驱动机构，所述驱动机构用于控制所述清洁装置沿设定的方向以一定的速度移动，以清洁下定盘上横向或纵向分布的沟槽内的颗粒物；

旋转机构，所述旋转机构用于控制所述清洁装置能够绕所述旋转机构的中心轴线顺时针依次旋转90°，以完成所有所述设定方向的所述沟槽的清洁工作。

8.根据权利要求7所述的清洁系统，其特征在于，所述清洁装置的移动速度为0.02米每秒。

9.一种双面研磨中下定盘的清洁方法，其特征在于，所述清洁方法能够应用于权利要求7或8所述的清洁系统中，所述清洁方法包括：

通过驱动机构驱动清洁装置沿设定的方向以一定的速度移动，以清洁下定盘上横向或纵向分布的沟槽内的颗粒物；

当所述清洁装置完成一个所述设定方向的清洁工作后，通过旋转机构控制所述清洁装置绕所述旋转机构的中心轴线顺时针依次旋转90°，以使得清洁装置旋转至下一个所述设定的方向并开始对所述沟槽进行清洁；

当所述清洁装置沿所有所述设定的方向完成所述沟槽的清洁工作后，通过旋转机构控制所述清洁装置旋转至所述清洁装置的原始位置处。

10.根据权利要求9所述的清洁方法，其特征在于，所述通过驱动机构驱动清洁装置沿设定的方向以一定的速度移动，以清洁下定盘上横向/或纵向分布的沟槽内的颗粒物，包括：

通过所述驱动机构控制多个毛刷沿所述设定的方向对所述下定盘上横向或纵向分布的所述沟槽内的颗粒物进行清洁；

在所述多个毛刷清洁所述颗粒物的过程中，通过高压喷水管喷射高压纯水来冲洗所述沟槽内的颗粒物。