[发明专利]一种青金釉陶瓷及制备方法

权利要求书

1.一种青金釉陶瓷，包括坯体和青金釉料，所述坯体表面有青金釉料，其特征在于，所述青金釉料由以下重量份的原料组成：方解石：6-10份，钾长石：17-19份，黑毛土15-18份，铝矿石：15-17份，草木灰：12-14份，钠长石：10-20份，石英14-18份，玛瑙石：1份。

2.根据权利要求1所述的一种青金釉陶瓷，其特征在于，所述青金釉料由以下重量份的原料组成：方解石：8份，钾长石：18份，黑毛土16份，铝矿石：16份，草木灰：13份，钠长石：10份，石英18份，玛瑙石：1份。

3.根据权利要求1-2中任意一项所述的一种青金釉陶瓷的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

①素烧，清理灰尘后将陶瓷生坯放入窑炉中，在750-850℃下素烧4-5h，得到陶瓷素坯；

②制备青金釉浆：将上述原料分别进行粉碎、混合，利用球磨机进行湿法球磨，过筛，万孔筛筛余量为0.1%～0.3%，除铁后制得青金釉浆，所述青金釉浆的釉料浓度为波美浓度45°be-60°be；

③施釉，在陶瓷素坯表面施釉，使釉料覆盖陶瓷素坯表面，釉层厚度为0.5-1mm；

④烧制成型，陶瓷素坯上的釉料干燥后放入窑炉中，在还原气氛中烧制成型，即烧制成型分为蒸发阶段、氧化阶段、强还原阶段、弱还原阶段、保温阶段和冷却阶段六个阶段。

4.根据权利要求3所述的一种青金釉陶瓷的制备方法，其特征在于，所述步骤④中烧制成型各阶段如下：

蒸发阶段：窑炉内由常温升至550±10℃，升温速度4.6-6℃/min；

氧化阶段：窑炉内升温至950±5℃，升温速度2-4℃/min；

强还原阶段：窑炉内升温至1050±5℃，升温速度0.4-0.8℃/min；

弱还原阶段：窑炉内升温至1200±5℃，升温速度1.6-2.5℃/min；

保温阶段：窑炉内温度控制在1230±10℃，保温时间2小时；

冷却阶段：停火，窑炉内温度自然降至100℃，打开窑炉的窑门。

5.根据权利要求4所述的一种青金釉陶瓷的制备方法，其特征在于，所述蒸发阶段窑炉的窑门和闸板呈打开状态，使窑炉内空气上下对流，所述氧化阶段窑炉的窑门关闭，闸板呈打开状态，所述强还原阶段闸板关闭，使窑内一氧化碳气氛保持在体积百分比7%-10%，所述弱还原阶段闸板呈半打开状态，使窑内一氧化碳气氛保持在体积百分比3%-5%，保温阶段使窑内一氧化碳气氛保持在体积百分比3%-5%。

6.根据权利要求4所述的一种青金釉陶瓷的制备方法，其特征在于，所述升温速度采用混合碳浆撒盖法控制，所述混合碳浆撒盖法是由碳粉与水混合形成混合碳浆，将该混合碳浆均匀分散到窑炉内部的薪柴表面，使混合碳浆覆盖住一部分薪柴，降低燃烧速度，减小火焰强度。

7.根据权利要求6所述的一种青金釉陶瓷的制备方法，其特征在于，所述混合碳浆覆盖住薪柴堆放表面面积的30%-40%。

8.根据权利要求6所述的一种青金釉陶瓷的制备方法，其特征在于，所述混合碳浆的碳浆粘度值为25-28s。

9.根据权利要求3所述的一种青金釉陶瓷的制备方法，其特征在于，所述陶瓷素坯表面拐角的凹处在施釉前抹水。