[发明专利]一种氟化物异形导光棒外表面镀反射膜的方法有效

专利信息
申请号: 202110812080.0 申请日: 2021-07-19
公开(公告)号: CN113463037B 公开(公告)日: 2022-10-11
发明(设计)人: 刘畅;徐悟生;姜劭华;朱逢旭;熊加丽;杨春晖;罗俊 申请(专利权)人: 秦皇岛本征晶体科技有限公司
主分类号: C23C14/30 分类号: C23C14/30;C23C14/18;C23C14/08;C23C14/02
代理公司: 苏州德坤知识产权代理事务所(普通合伙) 32523 代理人: 查杰
地址: 066000 河北省秦*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 一种 氟化物 异形 导光棒 外表 反射 方法
【权利要求书】:

1.一种氟化物异形导光棒外表面镀反射膜的方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤1)对待镀的异形导光棒进行超声清洗;

步骤2)对待镀的异形导光棒进行离子清洗活化;将异形导光棒固定至镀膜装置内,将镀膜装置内抽真空后充入一定量氩气,随后对异形导光棒施加脉冲直流偏压,以产生并维持辉光放电,利用Ar+离子轰击异形导光棒表面以去除表面吸附的杂质及氧化层活化异形导光棒表面;

步骤3)镀制氧化铝打底层;在镀膜装置内通入氧气,通过电子枪发射电子束将镀膜装置内坩埚中的铝熔化后蒸发,同时对坩埚施加连续直流偏压,将氧气及铝蒸气离化形成等离子云,同时,利用外加微波辅助方式增强离化率;随后对异形导光棒施加脉冲直流偏压,异形导光棒浸没于生产的铝、氧等离子体中,在脉冲直流偏压的影响下,正离子从各方向垂直向异形导光棒表面加速并轰击致密化膜层,以镀制氧化铝打底层,结束后关闭电子枪电源及施加在坩埚和异形导光棒上的偏压、并关闭氧气;

步骤4)镀制金属铝层;通入氩气,继续通过电子枪发射电子束将镀膜装置内坩埚中的铝熔化后蒸发同时对坩埚施加连续直流偏压,将铝蒸气离化形成等离子云,同时,利用外加微波辅助方式增强离化率,随后对异形导光棒施加脉冲直流偏压以镀制金属铝层,结束后关闭电子枪电源及施加在坩埚和异形导光棒上的偏压、并关闭氩气;

步骤5)镀制氧化铝保护层;采用镀制氧化铝打底层的步骤方法在金属铝层表现制备氧化铝保护层,从而得到成品;

所述镀膜装置包括外壳体,所述外壳体内吊装设置有工件盘,所述工件盘用于固定异形导光棒,所述工件盘上设置有供电组件,所述供电组件一端与异形导光棒连接,脉冲电源通过供电组件对异形导光棒施加偏压,所述外壳体内底部设置有电子束蒸发坩埚,所述电子束蒸发坩埚与直流电源连接,所述外壳体内还设置有充气口;

所述外壳体上还设置有微波发生器。

2.如权利要求1所述的氟化物异形导光棒外表面镀反射膜的方法,其特征在于,在步骤2)中,将镀膜装置内抽真空至5×10-4 Pa;充入氩气后,使气压维持在5×10-2 Pa;对异形导光棒施加-200 V的脉冲直流偏压,且频率为200 kHz,占空比30%。

3.如权利要求1所述的氟化物异形导光棒外表面镀反射膜的方法,其特征在于,在步骤3)中,通入氧气以及氩气后的气压均维持在1×10-3 Pa。

4.如权利要求1所述的氟化物异形导光棒外表面镀反射膜的方法,其特征在于,在步骤3)中,电子枪的电压选择15 kV,电流0.2 A。

5.如权利要求1所述的氟化物异形导光棒外表面镀反射膜的方法,其特征在于,在步骤3)中,对坩埚施加100 V的连续直流偏压,对异形导光棒施加-500 V的脉冲直流偏压,频率250 kHz,占空比30%。

6.如权利要求1所述的氟化物异形导光棒外表面镀反射膜的方法,其特征在于,在步骤3)中,镀制氧化铝打底层的时间为1分钟,镀制金属铝层的时间为2分钟,镀制氧化铝保护层的时间为1分钟。

7.如权利要求1所述的氟化物异形导光棒外表面镀反射膜的方法,其特征在于,所述工件盘中部通过吊杆与外壳体顶部连接,所述工件盘上设有滑动槽道,所述滑动槽道上设置有钻头夹,所述钻头夹通过内部的三爪组件夹紧异形导光棒。

8.如权利要求7所述的氟化物异形导光棒外表面镀反射膜的方法,其特征在于,所述钻头夹为手紧式结构,所述钻头夹的前套上设置有上限位盘,所述上限位盘上设置有外螺纹套,所述外螺纹套穿过滑动槽道与下限位盘螺纹连接,异形导光棒穿过外螺纹套与前套内的三爪组件配合固定,所述钻头夹的后套内设置有电连接柱,所述电连接柱与供电组件连接。

9.如权利要求8所述的氟化物异形导光棒外表面镀反射膜的方法,其特征在于,所述下限位盘底部设置有两个解锁柱,所述电连接柱端部设置有螺旋帽,所述螺旋帽与供电组件连接。

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