[发明专利]一种耐高输入光功率的硅光芯片端面耦合结构在审
申请号: | 202110797767.1 | 申请日: | 2021-07-14 |
公开(公告)号: | CN113552668A | 公开(公告)日: | 2021-10-26 |
发明(设计)人: | 马可;刘亚东;蔡鹏飞;潘栋;蘇宗一 | 申请(专利权)人: | NANO科技(北京)有限公司 |
主分类号: | G02B6/122 | 分类号: | G02B6/122;G02B6/125;G02B6/124 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100000 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 输入 功率 芯片 端面 耦合 结构 | ||
1.一种耐高输入光功率的硅光芯片端面耦合结构,其特征在于,包括:
端面耦合单元,用于接收自光纤输出的高光功率,并进行模斑转换;
功率分束单元,用于将自身接收的光分束为若干份;
转换单元,用于将光信号从氮化硅波导转换到硅波导;
且所述端面耦合单元与所述功率分束单元的波导由氮化硅形成。
2.根据权利要求1所述的一种耐高输入光功率的硅光芯片端面耦合结构,其特征在于,所述端面耦合单元的波导形状为倒锥形、三叉戟型或者亚波长光栅型。
3.根据权利要求1所述的一种耐高输入光功率的硅光芯片端面耦合结构,其特征在于,所述转换单元包括:氮化硅波导和硅波导,且结构采用基于垂直结构的耦合方式,所述氮化硅波导和所述硅波导均为锥形结构波导,且在垂直方向上有一定的间隔,随着所述氮化硅波导锥形结构逐渐变窄的同时,所述硅波导锥形结构逐渐变宽。
4.根据权利要求3所述的一种耐高输入光功率的硅光芯片端面耦合结构,其特征在于,还包括:第一连接单元,用于将所述端面耦合单元耦合的光信号传输至所述功率分束单元。
5.根据权利要求4所述的一种耐高输入光功率的硅光芯片端面耦合结构,其特征在于,所述第一连接单元的波导由氮化硅形成。
6.根据权利要求5所述的一种耐高输入光功率的硅光芯片端面耦合结构,其特征在于,所述功率分束单元将所述第一连接单元传输的光分成N份,其中1≤N≤50。
7.根据权利要求6所述的一种耐高输入光功率的硅光芯片端面耦合结构,其特征在于,所述功率分束单元的波导结构为多模干涉结构、定向耦合结构或者Y分支结构。
8.根据权利要求7所述的一种耐高输入光功率的硅光芯片端面耦合结构,其特征在于,还包括:第二连接单元,用于将光信号从所述功率分束单元传输至所述转换单元。
9.根据权利要求8所述的一种耐高输入光功率的硅光芯片端面耦合结构,其特征在于,所述第二连接单元的波导由氮化硅形成。
10.根据权利要求9所述的一种耐高输入光功率的硅光芯片端面耦合结构,其特征在于,还包括:第三连接单元,用于将自所述转换单元输出的光信号传输至后续的硅基光器件,所述第三连接单元的波导由硅形成。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于NANO科技(北京)有限公司,未经NANO科技(北京)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110797767.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。