[发明专利]制备多层金字塔单晶硅绒面的两步制绒添加剂及其应用

权利要求书

1.一种制备多层金字塔单晶硅绒面的两步制绒添加剂，其特征在于，包括添加剂A和添加剂B，所述添加剂A包括以下按质量百分比计算的组分：吐温0.02-5%、苯甲酸钠0.1-4.0%、硅酸钠0.12-8.0%以及余量的水；所述添加剂B包括以下按质量百分比计算的组分：为蛋白胨0.01-10%、葡萄糖0.01-10.0%、月桂醇聚氧乙烯醚0.01-10%、苯甲酸钠0.01-10%、吡啶0.01-10%以及余量的水。

2.一种权利要求1所述的两步制绒添加剂的应用，其特征在于，用于单晶硅两步制绒工艺中，所述添加剂A添加于第一步制绒工艺中，所述添加剂B添加于第二步制绒工艺中，以制备多层金字塔结构的单晶硅绒面。

3.根据权利要求2所述的两步制绒添加剂的应用，其特征在于，所述单晶硅两步制绒工艺，包括以下步骤：

S1.将浓度为1-10wt%的碱性溶液与添加剂A混合，形成第一反应液，将清洗后的单晶硅片置于所述第一反应液中进行第一步制绒；

S2.处理后的单晶硅片放入水中清洗；

S3.将浓度为1-10wt%的碱性溶液与添加剂B混合，形成第二反应液，将步骤S2所得的单晶硅片置于所述第二反应液中进行第二步制绒，即得多层金字塔结构的单晶硅绒面。

4.根据权利要求3所述的两步制绒添加剂的应用，其特征在于，所述添加剂A在第一步制绒工艺中的添加量为0.1-10wt%，反应时间为100-600s，反应温度为75-85℃。

5.根据权利要求3所述的两步制绒添加剂的应用，其特征在于，所述添加剂B在第二步制绒工艺中的添加量为0.1-10wt%，反应时间为60-180s，反应温度为75-85℃。

6.根据权利要求3所述的两步制绒添加剂的应用，其特征在于，步骤S2中，清洗时间为60-180s，清洗温度为10-40℃。

7.根据权利要求3所述的两步制绒添加剂的应用，其特征在于，所述碱性溶液中的碱包括有机碱和无机碱。

8.根据权利要求7所述的两步制绒添加剂的应用，其特征在于，所述无机碱为氢氧化钠或氢氧化钾。

9.根据权利要求7所述的两步制绒添加剂的应用，其特征在于，所述有机碱为四甲基氢氧化铵、乙二胺、乙三胺、甲二胺、四丁基氢氧化铵中的一种。