[发明专利]N型TOPCon太阳能电池的制作方法在审

专利信息
申请号: 202110785634.2 申请日: 2021-07-12
公开(公告)号: CN113571411A 公开(公告)日: 2021-10-29
发明(设计)人: 袁玲;王芹芹;瞿辉;曹玉甲 申请(专利权)人: 江苏顺风新能源科技有限公司
主分类号: H01L21/223 分类号: H01L21/223;H01L21/311;H01L31/20;H01L21/67
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司 32243 代理人: 朱晓凯
地址: 213123 江苏省常州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: topcon 太阳能电池 制作方法
【说明书】:

发明涉及一种N型TOPCon太阳能电池的制作方法,其采用了新的硼扩思路及方法,通过采用降低沉积反应源量降低硼扩后的表面富硼层、采用薄BSG工艺提高表面浓度,进而提升FF,大幅度降低成本和缩短了整个工艺时间。

技术领域

本发明属于太阳能电池技术领域,具体涉及一种N型TOPCon太阳能电池的制作方法

背景技术

在目前太阳能电池制造行业中,由于其工艺技术的成熟和成本的降低,P型PERC电池片技术已经成为主流,但是P型电池光衰和效率瓶颈等问题被制约了发展。而N型单晶硅具有少子寿命高、杂质少、纯度高等优点,是高效太阳能电池的理想材料。现有N型TOPCon技术可以改善电池表面钝化又可以促进多数载流子传输,进而提升电池的开路电压和填充因子。N型单晶硅较常规的P型单晶硅具有发电量高和可靠性高的双重优势,是未来高效电池的发展方向。

在太阳能电池制造业中,扩散被称为电池的心脏,高效率的太阳能电池需要低表面掺杂浓度的发射器,这样可以减少少数载流子复合带来的损失,提高开路电压和太阳能电池效率;而N型硅片在硼扩散过程中难以避免会形成一层很薄的富硼层(Boron-richlayer,简记BRL)。由于这一层B原子没有活性,而且BRL会导致该部分结构缺陷,所以富硼层严重影响了硅片少数载流子的寿命,最终影响电池的效率。目前TOPCon电池的硼扩工艺时间普遍在3小时以上,同时为了满足去除正面本征多晶硅不被反刻到结区,需要长时间的高温通氧时间获得厚的硼硅玻璃(BSG),成本及产能是生产流程中的瓶颈。

发明内容

为了克服上述缺陷,本发明提供了一种新型的N型TOPCon太阳能电池的制作方法,其采用了新的硼扩思路及方法,通过采用降低沉积反应源量降低硼扩后的表面富硼层、采用薄BSG工艺提高表面浓度,进而提升FF,大幅度降低成本和缩短了整个工艺时间。

为了实现上述目的,本发明的技术方案为:

一种N型TOPCon太阳能电池的制作方法,包括如下步骤:

(a)、双面制绒

(b)、单面硼扩散:利用低压扩散炉,双片合并插入水平舟的石英舟齿中,源量为:60sccm-150sccm,使用BCl3:O2:N2=1:5-15:20-40的流量比例在低压下进行分步递温式沉积扩散;而后降温至700℃-800℃,降温20min-50min,在降温的过程中通入2L-20L氧气进行氧化,控制氧化层BSG厚度在20nm-50nm;

(c)、背面酸刻蚀;

(d)、本征多晶硅;

(e)、双面磷掺杂;

(f)、去除正面PSG及本征多晶硅;

(g)、去除背面PSG及正面BSG;

(h)、钝化;

(i)、双面印刷。

作为本发明的进一步改进:步骤(b)中所述分步递温式沉积扩散具体为:第一步,在低压下先在温度840-850℃进行沉积,时间3-8min,再升高温度至860-880℃,在氮气保护下进行高温推进8-12min;第二步,在低压下先在温度860-880℃进行沉积,时间为6-10min,随后升温至890-910℃同样在氮气保护下进行高温推进8-12min;第三步,在低压下,再使用960℃进行高温推进8-12min。

更进一步的是:所述第一步升温推进的温度与第二步沉积的温度相同。

本发明利用分步递温式沉积扩散,更能取得均匀的沉积方阻;其次第二步在第一步推进后稳定的温度基础上再沉积,有利于硼源的均匀分布,同时少量源量及真空低压沉积在表面的富硼层越少。

作为本发明的进一步改进:步骤(b)中所述的低压是指真空压力为390-410mbar。

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