[发明专利]一种改善方片边缘膜厚的涂胶方法

说明书

本发明公开了一种改善方片边缘膜厚的涂胶方法，属于光刻胶涂胶工艺技术领域。该工艺首先进行BSR背洗工艺，然后使用EBR进行方片边缘润湿，此后再进行喷胶涂覆，涂胶过程中进行关闭Cover、关闭Damper操作，成膜之后开启Cover并采用低转速甩干，保证溶剂完全挥发。该工艺可使得方片涂覆过程中保证腔体内充分的湿度，使得光刻胶在方片边缘处具有更好的流动性，在相同的曝光显影条件下可以得到更好的边缘图形。

技术领域

本发明涉及光刻胶涂胶工艺技术领域，具体涉及一种改善方片边缘膜厚的涂胶方法。

背景技术

在显示领域柔性产品的迅速发展，使得玻璃基板成为显示面板的重要原材料之一，而玻璃基板中多以方形基片为主，传统玻璃基片多以刮胶方式为主，但随着柔性电子工艺的发展，涂胶的厚度越来越薄，目前旋涂工艺方式已成为膜厚低且均匀性好的最佳选择。

然而，方片涂胶时往往会出现边缘均匀性差、利用率低，其主要原因为在四角处存在风纹导致光刻胶聚集，其位置始于方片的内切圆处，内切圆内可获得良好的涂胶均匀性，内切圆外可见环状风纹。膜厚不均匀主要成因是由于内切圆外不规则区域离心力及风流不稳所导致。

发明内容

为了克服现有技术中存在的上述不足之处，本发明的目的在于提供一种改善方片边缘膜厚的方法，该方法通过增大涂胶腔体内部环境湿度，加速了光刻胶在方片表面流动性，尤其对其边缘处内切圆以外位置，从而可以极大的改善方片边缘膜厚情况，使得8英寸方片风纹由45mm处降到20mm处，同样曝光显影条件下边缘处可获得良好的图形效果。

为实现上述目的，本发明所采用的技术方案如下：

一种改善方片边缘膜厚的涂胶方法，该涂胶方法是针对8寸方片进行厚膜光刻胶的均匀涂覆，该涂胶工艺具体包括如下步骤：

(1)BSR背洗工艺(背面光刻胶去除工艺)：采用背洗喷嘴喷洒溶剂，方片吸附于承片台上方，方片随承片台转动而转动，溶剂被均匀的散布在腔体内，增大腔体内部湿度，同时关闭腔体排风阀(Damper)，以减缓溶剂挥发；

(2)方片边缘润湿：采用EBR方式在方片边缘内切圆外进行润湿，采用低转速旋转以保证方片边缘铺满液体；

(3)进行光阻涂覆；

(4)关闭Cover，并进行匀胶成膜。

(5)开启Cover，并进行长时间旋转，确保溶剂完全挥发。

所述厚膜光刻胶是指晶圆上涂布的膜厚为3μm以下的光刻胶。

上述步骤(1)中，BSR喷洒流量为50～80ml/min，喷涂时间10～20s，方片(承片台)转速500～3500r/min。

上述步骤(2)中，EBR喷洒流量5～10ml/min，喷涂时间10～20s，润湿位置由内切圆处至最边缘处。

上述步骤(3)中，进行光阻涂覆，根据实际情况设置打胶量、打胶速率及转速。

上述步骤(4)中，匀胶速率500～1000r/min，旋转时间20～40s。

上述步骤(5)中，长时间旋转时，转速小于步骤(4)中的匀胶速率优选为300～600r/min，旋转时间25～40s。

本发明的优点和有益效果如下：