[发明专利]一种改善方片边缘膜厚的涂胶方法在审
| 申请号： | 202110783962.9 | 申请日： | 2021-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN113568273A | 公开（公告）日： | 2021-10-29 |
| 发明（设计）人： | 张德强;汤振锋;边疆;孙悦 | 申请（专利权）人： | 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 于晓波 |
| 地址： | 110168 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 改善 边缘 涂胶 方法 | ||
1.一种改善方片边缘膜厚的涂胶方法，其特征在于：该涂胶方法是针对8寸方片进行厚膜光刻胶的均匀涂覆，具体包括如下步骤：
(1)BSR背洗工艺：采用背洗喷嘴喷洒溶剂，方片吸附于承片台上方，方片随承片台转动而转动，溶剂被均匀的散布在腔体内，增大腔体内部湿度，同时关闭腔体排风阀(Damper)，以减缓溶剂挥发；
(2)方片边缘润湿：采用EBR方式在方片边缘(方片内切圆外侧)进行润湿，采用低转速旋转以保证方片边缘铺满液体；
(3)进行光阻涂覆；
(4)关闭Cover，并进行匀胶成膜；
(5)开启Cover，并进行长时间旋转，确保溶剂完全挥发。
2.根据权利要求1所述的改善方片边缘膜厚的涂胶方法，其特征在于：所述厚膜光刻胶是指晶圆上涂布的膜厚为3μm以下的光刻胶。
3.根据权利要求1所述的改善方片边缘膜厚的涂胶方法，其特征在于：步骤(1)中，BSR喷洒流量为50～80ml/min，喷涂时间10～20s，方片(承片台)转速500～3500r/min。
4.根据权利要求1所述的改善方片边缘膜厚的涂胶方法，其特征在于：步骤(2)中，EBR喷洒流量5～10ml/min，喷涂时间10～20s，润湿位置由内切圆处至方片最边缘处。
5.根据权利要求1所述的改善方片边缘膜厚的涂胶方法，其特征在于：步骤(3)中，进行光阻涂覆时，根据实际需求设置打胶量、打胶速率及转速。
6.根据权利要求1所述的改善方片边缘膜厚的涂胶方法，其特征在于：步骤(4)中，匀胶速率500～1000r/min，旋转时间20～40s。
7.根据权利要求1所述的改善方片边缘膜厚的涂胶方法，其特征在于：步骤(5)中，长时间旋转时，方片转速小于步骤(4)中的匀胶速率。
8.根据权利要求7所述的改善方片边缘膜厚的涂胶方法，其特征在于：步骤(5)中，长时间旋转时，方片转速为300～600r/min，旋转时间25～40s。
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