[发明专利]晶圆的键合方法及系统有效
申请号: | 202110772546.9 | 申请日: | 2021-07-08 |
公开(公告)号: | CN113488394B | 公开(公告)日: | 2022-08-12 |
发明(设计)人: | 田应超 | 申请(专利权)人: | 湖北三维半导体集成制造创新中心有限责任公司 |
主分类号: | H01L21/50 | 分类号: | H01L21/50;H01L21/67 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 曹廷廷 |
地址: | 430205 湖北省武汉市东湖新技术开发*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 方法 系统 | ||
1.一种晶圆的键合方法,其特征在于,包括:
提供绷膜环及器件晶圆,并分别获取所述绷膜环和所述器件晶圆的标识;
将所述器件晶圆与所述绷膜环固定,并将所述绷膜环的标识和所述器件晶圆的标识绑定;
在多个机台上完成所述器件晶圆的键合,直至将所述器件晶圆中的合格芯片分别键合至目标晶圆上,每个所述机台均通过识别所述绷膜环的标识识别所述器件晶圆;以及,
将所述绷膜环的标识与所述器件晶圆的标识解绑,回收并重复利用所述绷膜环。
2.如权利要求1所述的晶圆的键合方法,其特征在于,利用混合键合工艺将所述合格芯片分别键合至所述目标晶圆上。
3.如权利要求1或2所述的晶圆的键合方法,其特征在于,所述机台包括划片机台及键合机台,所述器件晶圆进行键合的步骤包括:
利用所述划片机台对所述器件晶圆进行划片,以将所述器件晶圆切割为单个的所述芯片;以及,
利用所述键合机台将所述芯片中的合格芯片分别键合至所述目标晶圆上。
4.如权利要求3所述的晶圆的键合方法,其特征在于,所述绷膜环上贴附有一胶带,通过将所述器件晶圆贴附在所述胶带上以将所述器件晶圆与所述绷膜环固定。
5.如权利要求4所述的晶圆的键合方法,其特征在于,所述机台还包括扩膜机台,对所述器件晶圆进行划片之后,将所述芯片中的合格芯片分别键合至所述目标晶圆上之前,所述器件晶圆进行键合的步骤还包括:
利用所述扩膜机台对所述胶带进行扩膜,以使相邻的所述芯片之间的间距增大。
6.如权利要求4所述的晶圆的键合方法,其特征在于,回收并重复利用所述绷膜环之前,撕去所述绷膜环上的胶带。
7.如权利要求4所述的晶圆的键合方法,其特征在于,所述胶带包括蓝膜或UV膜。
8.如权利要求3所述的晶圆的键合方法,其特征在于,所述划片机台包括激光切割机台、刀轮切割机台及刻蚀机台中的一种或多种。
9.如权利要求3所述的晶圆的键合方法,其特征在于,将所述器件晶圆与所述绷膜环固定时,所述器件晶圆还通过临时键合胶键合了载片晶圆。
10.如权利要求9所述的晶圆的键合方法,其特征在于,所述机台还包括解键合机台及清洗机台,对所述器件晶圆进行划片之前,所述器件晶圆进行键合的步骤还包括:
利用所述解键合机台将所述器件晶圆与所述载片晶圆解键合,以分离所述载片晶圆;以及,
利用所述清洗机台对所述器件晶圆进行清洗,以去除所述器件晶圆表面的所述临时键合胶。
11.如权利要求1或2所述的晶圆的键合方法,其特征在于,当所述绷膜环的使用次数超过一设定值时,将所述绷膜环报废处理。
12.如权利要求1或2所述的晶圆的键合方法,其特征在于,所述绷膜环上的标识通过激光打标的方式制备。
13.一种晶圆的键合系统,其特征在于,包括:
标识获取模块,用于分别获取绷膜环和器件晶圆的标识;
标识绑定模块,用于将所述器件晶圆与所述绷膜环固定,并将所述绷膜环的标识和所述器件晶圆的标识绑定;
多个标识识别模块,位于对应的机台上,在多个所述机台上完成所述器件晶圆的键合,直至将所述器件晶圆中的合格芯片分别键合至目标晶圆上,每个所述机台的所述标识识别模块通过识别所述绷膜环的标识识别所述器件晶圆;以及,
标识解绑模块,用于将所述绷膜环的标识与所述器件晶圆的标识解绑,以回收并重复利用所述绷膜环。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖北三维半导体集成制造创新中心有限责任公司,未经湖北三维半导体集成制造创新中心有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110772546.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造