[发明专利]掩模和包括该掩模的沉积装置

说明书

本发明的实施例涉及掩模和包括该掩模的沉积装置。所述掩模包括：主体单元，沉积开口被限定穿过所述主体单元；和突出单元，图案开口被限定穿过所述突出单元，并且所述突出单元从所述主体单元的拐角突出，其中所述主体单元的厚度大于所述突出单元的厚度。

本申请要求于2020年7月10日递交的第10-2020-0085284号韩国专利申请的优先权以及由此获得所有权益，其内容整体上通过引用合并于此。

技术领域

本发明的实施例涉及掩模和沉积装置，并且更具体地涉及拐角区域被图案化的掩模以及包括该掩模的沉积装置。

背景技术

通常，发光显示设备具有布置用于每个像素的发光元件。发光元件包括设置在分离的电极之间的发光层。包括在像素中的发光层可被分成多组。

掩模用于将多组像素沉积在工作基板上。在将工作基板布置在掩模上之后，沉积材料可被沉积在工作基板上。

发明内容

本发明的实施例提供一种沉积装置，其包括拐角区域被图案化的掩模。

本发明的实施例提供一种掩模，该掩模包括：主体单元，沉积开口被限定穿过所述主体单元；和突出单元，图案开口被限定穿过所述突出单元，并且所述突出单元从所述主体单元的拐角突出，其中所述主体单元的厚度大于所述突出单元的厚度。

在一实施例中，所述突出单元可包括：从所述主体单元的所述拐角突出的第一部分；与所述第一部分间隔开并从所述主体单元的所述拐角突出的第二部分；以及设置在所述第一部分与所述第二部分之间的第三部分。

在一实施例中，所述拐角可具有曲率，并且所述第三部分可从所述沉积开口朝向所述主体单元的所述拐角凹入。

在一实施例中，所述图案开口可被提供多个，其中多个图案开口可沿从所述主体单元的所述拐角朝向所述沉积开口的方向布置。

在一实施例中，所述多个图案开口可由所述突出单元围绕。

在一实施例中，所述多个图案开口可具有彼此不同的面积。

在一实施例中，所述突出单元包括可多个分隔壁，其中所述多个分隔壁可暴露所述主体单元的所述拐角的一部分，被彼此分离布置，并且从所述主体单元的所述拐角朝向所述沉积开口延伸。

在一实施例中，所述突出单元可被提供多个，其中，在从所述主体单元的所述拐角朝向所述沉积开口的方向上，所述多个分隔壁中的至少一个在所述方向的垂直方向上的宽度可变化。

在一实施例中，所述主体单元的厚度可为大约100微米(μm)至大约300μm。

在一实施例中，所述突出单元的厚度可为大约10μm至大约50μm。

在本发明的一实施例中，一种沉积装置包括：腔室；布置在所述腔室内的掩模；基底基板，被布置在所述掩模上，并包括与所述基底基板的沉积区域的拐角部分相邻的第一区域和围绕所述第一区域的至少一部分的第二区域；以及沉积源，该沉积源将沉积材料提供至所述基底基板；其中所述掩模包括：主体单元，暴露所述第二区域的沉积开口被限定在所述主体单元中；和突出单元，暴露所述第一区域的一部分的图案开口被限定在所述突出单元中，并且所述突出单元从所述主体单元的拐角突出并覆盖所述第一区域的其余部分，其中所述主体单元的厚度大于所述突出单元的厚度。

在一实施例中，所述突出单元可包括：从所述主体单元的所述拐角突出的第一部分；与所述第一部分间隔开并从所述主体单元的所述拐角突出的第二部分；以及设置在所述第一部分与所述第二部分之间的第三部分。

在一实施例中，所述主体单元的所述拐角可具有曲率，并且所述第三部分可从所述沉积开口朝向所述主体单元的所述拐角凹入。